原子層沉積系統(tǒng)是一種用于化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。技術(shù)指標(biāo)反應(yīng)腔腔壁加熱溫度應(yīng)不低于300℃;反應(yīng)腔能夠適應(yīng)在8英寸及以下尺寸平面基底上沉積薄膜材料且對(duì)基底形狀沒有嚴(yán)格要求,基底加熱溫度可達(dá)...
查看詳情原子層沉積系統(tǒng)是一種用于化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。技術(shù)指標(biāo)反應(yīng)腔腔壁加熱溫度應(yīng)不低于300℃;反應(yīng)腔能夠適應(yīng)在8英寸及以下尺寸平面基底上沉積薄膜材料且對(duì)基底形狀沒有嚴(yán)格要求,基底加熱溫度可達(dá)...
查看詳情摘要 AMAT二手金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備CenturaAPISPRINT,針對(duì)于300nm晶圓,主機(jī)類型為CenturaAP,工藝采用WCVD,擁有4個(gè)腔室,3個(gè)裝載端口
在線詢價(jià)摘要 AMAT等離子化學(xué)氣相沉積PECVD設(shè)備producerse,生產(chǎn)于2003年,采用PETEOS工藝,針對(duì)12英寸(300mm)晶圓處理
在線詢價(jià)摘要 SAMCO二手刻蝕機(jī)PD-3800現(xiàn)貨供應(yīng),2011年設(shè)備,PECVD系統(tǒng),可對(duì)2-6英寸晶圓進(jìn)行加工處理,已打包封裝完成,隨時(shí)發(fā)貨
在線詢價(jià)摘要 矽碁科技利用PEALD和PECVD各自鍍膜的特點(diǎn)為用戶開發(fā)了PECVDPEALD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng),用于半導(dǎo)體工藝中的薄膜封裝
在線詢價(jià)摘要 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積,適合做高溫的結(jié)晶材料,加熱絲輔助的同時(shí)還可以利用等離子體增強(qiáng)線圈進(jìn)一步輔助,從而提高制備出來的薄膜的晶體取向性
在線詢價(jià)摘要 電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ICPChemicalVaporDeposition,ICPVD)利用ICP線圈將反應(yīng)氣體高度離化,是的CVD可以在高溫下實(shí)現(xiàn)一些特殊材料的沉積
在線詢價(jià)摘要 化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應(yīng)劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程,廣泛應(yīng)用于金屬、氧化物、氮化物及碳化物等無機(jī)薄膜的制備
在線詢價(jià)摘要 矽碁科技利用PEALD和PECVD各自鍍膜的特點(diǎn)為用戶開發(fā)了PECVDPEALD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng),用于半導(dǎo)體工藝中的薄膜封裝,OELD薄膜封裝,太陽能電池封裝,薄膜鋰電池封裝等
在線詢價(jià)摘要 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進(jìn)行薄膜沉積,可進(jìn)行大面積小批量樣品沉積
在線詢價(jià)摘要 便攜式土壤水分速測(cè)儀/便攜式土壤水份測(cè)定儀/土壤水份檢測(cè)儀 型號(hào):SZP-TZS-1土壤水分是土壤的重要組成部分,對(duì)作物的生長、節(jié)水灌溉等有著非常重要的作用。通過GPS定位系統(tǒng)掌握土壤的水分(墑情)的分布狀況
在線詢價(jià)摘要 巖相試樣切割機(jī) 巖相切割機(jī)在金相試樣制備過程中,試樣材料的切割是試樣制備的首道重要工序。TC-QG-2型切割機(jī)于一般巖相材料。為保證能在安全狀態(tài)下切取試樣,本機(jī)采用全封閉雙罩殼結(jié)構(gòu)和快速夾緊裝置,并有冷卻水箱,可使用配制好的冷卻液作循環(huán)使用。
在線詢價(jià)點(diǎn)著溫度測(cè)定儀 型號(hào):JN9-
點(diǎn)著溫度測(cè)定儀 型號(hào):JN9-DW-02庫號(hào):M346270 查看hh點(diǎn)著溫度測(cè)定儀DW-02型點(diǎn)著溫度測(cè)定儀客服熱線: 15267989561
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