低壓化學(xué)氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進(jìn)行薄膜沉積,可進(jìn)行大面積小批量樣品沉積。
技術(shù)參數(shù):
1 基片尺寸可定制,可達(dá)10 英寸;
2 加熱溫度 1700 ℃,單溫區(qū)或者多溫區(qū)可選;
3 最多可配置6路工藝氣體;
4 配備油泵或者干泵,可選配分子泵;
5 樣品水平,垂直兩種配置模式;
6 可小批量量產(chǎn);
應(yīng)用領(lǐng)域:
LPCVD
退火
擴(kuò)散
氧化
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