SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng),可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元,與退火設(shè)備SAN2000Plus,鍍膜設(shè)備,SVE2000Plus蒸鍍設(shè)備,SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設(shè)備搭配;
SAL-3000Plus SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus
性能及特點(diǎn):
1.鍍膜質(zhì)量高 | ![]() |
· 膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
· 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性; | |
· 膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個原子層; | |
· 大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜(Pin Hole free) | |
· *的重復(fù)性及穩(wěn)定性 | |
· 材料缺陷密度低 | |
· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜(選擇溫度) | |
2.兩種成膜方向可選 | ![]() |
· 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面,薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險。 | |
3. 可通過STR2000與其它Plus系列設(shè)備串聯(lián) | |
4.最多可搭載6路前驅(qū)體 | |
5.優(yōu)異的真空性能:真空度≤5Pa | |
6.圖形用戶界面,觸控操作,簡單易用,可存儲30多種鍍膜方案 | |
7.與SAL3000相比,寬度減少了40% | |
6. 可搭配多種配件: | |
干式真空泵,臭氧發(fā)生器,尾氣處理裝置,800℃基底加熱器,200℃前驅(qū)體加熱器等,退火設(shè)備等; |