熱絲輔助化學氣相沉積（HWCVD／HW-PECVD）-儀表網(wǎng)

公司介紹主營產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團隊成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷售和安裝服務，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術相關的設備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價比高，品質(zhì)精良，性能*，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內(nèi)眾多的科研院所和大學均對我們的產(chǎn)品報以好評。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務和專業(yè)的技術為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

點擊展示更多內(nèi)容

產(chǎn)品簡介在線詢價

熱絲輔助化學氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進行薄膜化學氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時還可以利用等離子體增強線圈進一步輔助，從而提高制備出來的薄膜的晶體取向性

熱絲輔助化學氣相沉積（HWCVD／HW-PECVD）產(chǎn)品詳情

熱絲輔助化學氣相沉積(Hot Wire Assisted Chemical Vapor Deposition, HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進行薄膜化學氣相沉積，適合做高溫的結(jié)晶材料，加熱絲輔助的同時還可以利用等離子體增強線圈進一步輔助，從而提高制備出來的薄膜的晶體取向性。

技術參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；
2 加熱溫度 2000℃；
3 樣品臺加熱溫度500℃；
4 ICP等離子體增強可選；

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
芬蘭Picosun原子層沉積系統(tǒng)	面議	廣州市	廣州納儀科技有限公司	2024-05-12	在線詢價
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-19	在線詢價
P-300B 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-17	在線詢價
R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-15	在線詢價
R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-13	在線詢價
大尺寸原子層沉積系統(tǒng) 技術成熟放心選購	面議		北京正通遠恒科技有限公司	2023-10-03	在線詢價

免責申明

所展示的信息由會員自行提供，內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由發(fā)布會員負責，儀表網(wǎng)對此不承擔任何責任。儀表網(wǎng)不涉及用戶間因交易而產(chǎn)生的法律關系及法律糾紛，糾紛由您自行協(xié)商解決

友情提醒：本網(wǎng)站僅作為用戶尋找交易對象，就貨物和服務的交易進行協(xié)商，以及獲取各類與貿(mào)易相關的服務信息的平臺。為避免產(chǎn)生購買風險，建議您在購買相關產(chǎn)品前務必確認供應商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。過低的價格、夸張的描述、私人銀行賬戶等都有可能是虛假信息，請采購商謹慎對待，謹防欺詐，對于任何付款行為請您慎重抉擇！如您遇到欺詐等不誠信行為，請您立即與儀表網(wǎng)聯(lián)系，如查證屬實，儀表網(wǎng)會對該企業(yè)商鋪做注銷處理，但儀表網(wǎng)不對您因此造成的損失承擔責任！

相關產(chǎn)品分類更多+