SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備,該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外,還可進(jìn)一步通過(guò)改變鍍膜方向,來(lái)進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設(shè)備還可搭載互鎖腔體(Load lock Chamber)和手套箱來(lái)沉積需要?dú)夥毡Wo(hù)的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load Lock Chamber
性能及特點(diǎn):
1.鍍膜質(zhì)量高 | ![]() |
·膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
·對(duì)于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性; | |
·膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層; | |
·大面積制程可達(dá)到無(wú)孔洞薄膜(Pin Hole free) | |
·*的重復(fù)性及穩(wěn)定性 | |
·材料缺陷密度低 | |
·可成長(zhǎng)非晶型或結(jié)晶薄膜(選擇溫度) | |
2.兩種成膜方向可選 | |
·可選擇將薄膜沉積在基底上表面(SAL-3000D)和基底下表面(SAL-3000U),薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險(xiǎn)。 | |
3. 可搭載互鎖腔體(Load lock chamber)和手套箱 | |
4.圖形用戶界面,觸控操作,簡(jiǎn)單易用,可存儲(chǔ)30多種鍍膜方案; | |
5.主機(jī)與控制機(jī)箱一體化設(shè)計(jì); | |
6. 可搭配多種配件: | |
干式真空泵,臭氧發(fā)生器,尾氣處理裝置,800℃基底加熱器,200℃前驅(qū)體加熱器等,退火設(shè)備等; |