摘要 簡要描述：YZD08-2C等離子清洗器廣泛應(yīng)用于科學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生命醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

摘要 等離子清洗器不僅可以清洗注塑過程中外殼留下的油污，還可以激活塑料外殼表面，增強(qiáng)其包裝印刷、涂層等粘接的實(shí)際效果，使外殼上的涂層與基體牢固連接，涂層實(shí)際效果非常均勻，外觀更美觀，耐磨性大大提高，長期使用不會出現(xiàn)磨漆現(xiàn)象。

摘要 Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片

摘要 簡要描述：等離子清洗器YZD08-5C廣泛應(yīng)用于科學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生命醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

摘要 隨著納米科學(xué)的發(fā)展，電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性：電子束能量降低，反應(yīng)氣體使用的增加，保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平

摘要 眾瀕小型射頻真空等離子清洗機(jī)實(shí)驗(yàn)室儀器，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。

摘要 簡要描述：等離子清洗器YZD08-2C;*個(gè)引進(jìn)了美國霍尼韋爾真空壓力傳感器使得機(jī)器在智能控制下有了可靠的依據(jù);采用艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，稱之為全防腐型;該儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng)，自動(dòng)兩種模式任意切換的工作方式

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術(shù)，通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸汽持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質(zhì)的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技術(shù)，通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸汽持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質(zhì)的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-3...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”放電電壓 / 電流: 50-...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“放電電壓 / 電流: 50-300V / 20...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束離子源,小型號的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 10 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typ...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typical flow）: 2-...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵極離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 250 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流....

摘要上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規(guī)格柵極離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 400 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.采用雙陰極燈絲和自對準(zhǔn)柵極.加熱燈絲產(chǎn)生電...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 650 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 （Typical flow）: 2...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 350 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量（Typic...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 離子束可聚焦, 平行, 散射.離子束流: 600 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.離子束流: 800 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量（Typical flow）: 10-40 sccm; 壓力...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 離子源, 原廠*.KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 1500 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.離子束可聚焦, 平行, 散射.采用射頻技...

摘要 SQ型酸逆流器皿清洗裝置清洗PFA溶樣罐1）腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實(shí)驗(yàn)級PTFE材質(zhì)。 （2）加熱系統(tǒng)可按照客戶要求做成節(jié)能環(huán)保型的硅膠加熱片，功率為350W；或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W

摘要 善準(zhǔn)科技等離子清洗機(jī)VP-R手動(dòng)版腔體溫度小于32攝氏度，頻率13.56MHz物理與化學(xué)作用俱佳，適用于PDMS鍵合、石墨烯粉末清洗、硅材料親水性處理和高分子材料處理。

摘要 PLUTO-T具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。 **地清除樣品表面的有機(jī)污染物。

摘要 真空等離子清洗機(jī) 活性增強(qiáng)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備工業(yè)，為真空等離子清洗機(jī)。jun工級腔體，真空清洗，進(jìn)口品質(zhì)，國產(chǎn)價(jià)格，高性價(jià)比。

摘要 大氣低溫等離子清洗機(jī) 表面增強(qiáng)實(shí)驗(yàn)室工業(yè)，為等離子清洗機(jī)。德國電路技術(shù)，低溫清洗，進(jìn)口品質(zhì)，國產(chǎn)價(jià)格，高性價(jià)比。

摘要真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品簡述1、等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。（A）控制單元 控制單元液晶觸摸屏控制方式。 而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：1）電源部分：主要電源頻率是13.56MHz、13.56MHz 是需要電源匹配器的2...

摘要等離子清洗機(jī)的氣體調(diào)壓與使用氣體壓力控制是保證等離子清洗機(jī)正常運(yùn)行的重要參數(shù)之一，常見的氣體減壓有：氣瓶減壓器、氣動(dòng)調(diào)壓閥及管道節(jié)流閥。氣瓶減壓器是將氣瓶內(nèi)的高壓氣體減壓為低壓氣體的裝置。等離子清洗機(jī)所使用的工藝氣體大多為瓶裝高壓氣體，為保證工藝穩(wěn)定性及各氣路元件的工...

摘要等離子清洗機(jī)介質(zhì)阻擋放電的研究歷史1 利用介質(zhì)阻擋（DBD）放電產(chǎn)生臭氧和氮氧化物1857年，Siemens等離子利用同軸的圓筒電極結(jié)構(gòu)的DBD放電產(chǎn)生臭氧；1860年，Andrews將此放電命名為無聲放電（silent discharge）。從1860年到1900年...

摘要等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比有什么優(yōu)勢等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是...

摘要 等離子設(shè)備改善PCB制程中外層線路導(dǎo)致短路造成PCB制程中外層線路導(dǎo)致短路可能的原因：1.乾膜的附著力不佳，造成線間也鍍上銅錫2.乾膜受到刮撞傷造成線路間距鍍上銅錫3.線路電鍍過高產(chǎn)生草菇頭（Mushroom） 現(xiàn)象， 線路無法蝕出。

摘要等離子設(shè)備改善PCB板印刷不清問題印制電路板，又稱印刷電路板、印刷線路板，簡稱印制板，英文簡稱PCB（printed circuit board ）或PWB（printed wiring board），以絕緣板為基材，切成一定尺寸，其上至少附有一個(gè)導(dǎo)電圖形，并布有孔（...

摘要 等離子設(shè)備改善PCB板錫面粗糙可能造成錫面粗糙的原因有：錫面粗糙一般所指的是噴錫板的上錫區(qū)產(chǎn)生顆粒狀的外觀，這樣的外觀主要來自于以下原因：1.上錫區(qū)表面不潔2.助焊劑不足3.錫槽不純度過高

摘要等離子清洗機(jī)可以改變氮化硅層的形貌等離子清洗機(jī)可以實(shí)現(xiàn)表面清洗、表面活化、表面刻蝕以及表面涂鍍的功能，根據(jù)所需處理的材料與目的不同，等離子清洗機(jī)可以實(shí)現(xiàn)不同的處理效果。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用有等離子刻蝕、顯影、去膠、封裝等。真空等離子清洗機(jī)的刻蝕工藝在半導(dǎo)體...

摘要 低溫等離子設(shè)備的應(yīng)用范圍低溫等離子放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體，也叫非平衡態(tài)等離子體。

摘要 作為在實(shí)驗(yàn)室中使用的等離子體研發(fā)平臺，我們努力嘗試為客戶解決一切可能在實(shí)驗(yàn)活動(dòng)中遇到的需求?！耙?yàn)槭亲约貉邪l(fā)的，所以我們知道怎么改！”我們的總工這樣評價(jià)我們的研發(fā)能力。我們非常樂意傾聽用戶需求，與用戶一起合作，制造出能夠幫助客戶解決問題的設(shè)備。

摘要 AAC54酸逆流清洗器采用*技術(shù)，通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸汽持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、PTFE等材質(zhì)的試管及附件上面的任何痕量金屬污染物*清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 經(jīng)過多年技術(shù)創(chuàng)新和積累，PLUTO-M創(chuàng)新性將真空式等離子體技術(shù)應(yīng)用于各種不同領(lǐng)域的研究型操作平臺，除了實(shí)現(xiàn)常規(guī)清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實(shí)現(xiàn)等離子體鍍膜，等離子體合成反應(yīng)，等離子體純化等功能，*的拓展該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域。

摘要Pluto30是專為研發(fā)而設(shè)計(jì)的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個(gè)過程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達(dá)7個(gè)可調(diào)節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設(shè)置，可配置成RIE和PECVD模...

摘要 PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規(guī)性能的同時(shí)，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學(xué)反應(yīng)，粉體等離子體處理等多種能力。

摘要等離子技術(shù)可以改善PCB板綠漆缺點(diǎn)問題使用等離子技術(shù)是不是可以改善PCB板綠漆缺點(diǎn)問題?那么首先需要知道這些都是什么樣的問題。答案是：PCB板線路漏銅、PCB板線路沾金、PCB板印字不清、PCB板印字偏移、PCB板S/M滲入孔內(nèi)、PCB板PAD沾S/M、PCB板綠漆不...

摘要教您進(jìn)入等離子體刻蝕，讀懂新科技新時(shí)代通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。等離子刻蝕，是王法刻蝕中較常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生...

摘要用于PCB線路板等離子表面處理,*提升等離子清洗機(jī)使用真空腔體，在PCB線路板區(qū)域中的上電極和下電極之間存在自由傳導(dǎo)路徑，但在膠帶和PCB線路板框架區(qū)域中沒有傳導(dǎo)路徑。該環(huán)由絕緣的非導(dǎo)電材料制成，而鋁到鋁等離子體傳導(dǎo)路徑被限制在PCB線路板區(qū)域。環(huán)與膠帶和晶片框之間有...