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KRI 考夫曼射頻離子源 用于制備超薄 TEM 樣品

來源:上海伯東企業(yè)有限公司   2020年10月26日 14:34  

普通傳統(tǒng)的制樣減薄方法存在遠端的薄區(qū)極易彎曲和薄區(qū)厚度不均勻的問題, 因此某機構(gòu)采用伯東 KRI考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 通過交叉減薄的方法制備超薄 TEM 樣品.

 

交叉減薄

交叉減薄的過程利用 TEM 樣品臺的旋轉(zhuǎn)來完成, 如下圖.

TEM 樣品臺模型圖

伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行刻蝕、沉積和減薄.

 

運行結(jié)果:

1. 通過利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 和樣品臺交叉減薄得到的薄區(qū)非常均勻, 邊緣整齊. 相比較傳統(tǒng)減薄方法, 交叉減薄避免了樣品在傾斜52°和56°減薄時出現(xiàn)的邊緣收縮問題和遠端薄區(qū)彎曲問題.

2. 對于復合材料大大降低了位于兩相界面處薄區(qū)的厚度, 提高了樣品質(zhì)量, 提高了制樣的成功率和效率.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

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