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  • 美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 2000 等離子清洗器

美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 2000 等離子清洗器

參考價(jià)訂貨量

10

≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2022-10-19
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限6
  • 產(chǎn)品數(shù)量92
  • 人氣值1306
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位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為800萬(wàn)美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營(yíng)電子接插件、線束、電線以及機(jī)械設(shè)備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設(shè)備的維修,以及以半導(dǎo)體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易及保稅區(qū)企業(yè)間貿(mào)易及保稅區(qū)貿(mào)易代理、貿(mào)易及相關(guān)技術(shù)咨詢的公司。

公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、 ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 2000 等離子清洗器 產(chǎn)品詳情

上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”

放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

 

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性:

1.水冷 - 與 KRI 霍爾離子源 eh 1000 對(duì)比, 提供更高的離子輸出電流

2.可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便

5.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

 

伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列在售型號(hào)及技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)

 

霍爾離子源

eH2000
eH2000LE
eH2000HO

Cathode/Neutralizer

F or HC
HC
HC

電壓

50-300V
30-150V
50-250V

電流

10A
15A
15A

散射角度

>45

可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

氣體流量

2-75sccm

高度

4.0“

直徑

5.7“

水冷

 

伯東 KRI 霍爾離子源 eH2000 應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 離子輔助鍍膜 IAD

2. 預(yù)清洗 Load lock preclean

3. 預(yù)清洗 In-situ preclean

4. Direct Deposition

5. Surface Modification

6. Low-energy etching

7. III-V Semiconductors

8. Polymer Substrates

 

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