摘要SYDC-500型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。...

摘要SYDC-100M多層浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī)（Dip Coater）,是專門為多層不同材料鍍膜的研究工作而設(shè)計。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜...

摘要SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) 提拉機(jī) Dip Coater 是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、...

摘要SYDC-200H控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater“是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料而設(shè)計，對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均...

摘要SYDC-100N氮氣保護(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater。是專門為氮氣氣氛保護(hù)下的液相法（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計。對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間...

摘要SYDC-100H控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater“是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料而設(shè)計，對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均...

摘要SYDC-200型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī)（Dip Coater）是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制...

摘要 日本SDI浸漬提拉鍍膜機(jī)MD-0408-S7是日本原裝實驗室/研發(fā)、臺式、*的微米速度超低速浸漬提拉式鍍膜機(jī)。

摘要產(chǎn)品描述：JML04 LB膜多功能拉膜機(jī)（又稱膜天平 FILM BALNCE）是測定極性有機(jī)物（兩親分子）物理化學(xué)特性的精密測量儀器。它可以動態(tài)地研究各種有機(jī)極性物質(zhì)（蛋白質(zhì)、脂質(zhì)、高聚物等）的單分子層表面膜，記錄膜的分子表面積（A）與表面張力（r）或表面壓力（π）之...

摘要西班牙Nadetech公司ND-R 8工位浸漬鍍膜機(jī)是一種*自動化的設(shè)備，用于通過浸涂沉積多層薄膜。其設(shè)計和可編程軟件允許以高精度和可重復(fù)性控制和自動化每個沉積參數(shù)。ND-R浸涂機(jī)用于通過溶膠-凝膠，逐層組裝和其他浸涂技術(shù)獲得具有多層的納米涂料，它的八個浸入位置允許與...

摘要 上海伯東美國*考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計輸出高質(zhì)量,穩(wěn)定的電子流.

摘要 上海伯東離子源典型應(yīng)用: 直徑 2.2m 蒸鍍機(jī), 霍爾離子源用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠(yuǎn)鏡鏡片全反射膜, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業(yè)成本!霍爾離子源典型應(yīng)用 IBAD 輔助鍍膜

摘要 上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在小型離子蝕刻機(jī)中的 KRI 霍爾離子源 EH 400 HC, 對 2英寸硅芯片蝕刻,霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕

摘要 上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在離子蝕刻機(jī)中的 KRI 射頻離子源, 對應(yīng)用于半導(dǎo)體后端的6寸晶圓進(jìn)行刻蝕

摘要 上海伯東離子源典型應(yīng)用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機(jī)中, 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn).射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜

摘要上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源是制...

摘要 西班牙Nadetech 公司ND-DC浸涂機(jī)是一種*自動化的單元，用于通過浸涂法制造薄膜。其設(shè)計和可編程軟件允許以高精度和可重復(fù)性控制和自動化每個沉積參數(shù)。ND-DC用于通過浸涂技術(shù)獲得具有一層或多層的納米涂層，例如溶膠-凝膠，聚合物層，自組裝單層膜和各種生物膜。

摘要 KSV NIMA LB膜多功能拉膜機(jī)整個系統(tǒng)框架型結(jié)構(gòu)，允許添加其它附屬裝置，例如：可以與布魯斯特角顯微鏡BAM聯(lián)用；高質(zhì)量的硬質(zhì)熔結(jié)槽體；可進(jìn)行膜的熒光和光譜分析，測量pH值和表面勢能等。

摘要 SCI300 LB膜多功能拉膜機(jī)近年來，膜天平在生物、醫(yī)學(xué)、水處理領(lǐng)域的應(yīng)用日趨廣泛，此外，膜天平測量技術(shù)在應(yīng)用化學(xué)、生物膜、脂質(zhì)體、集成光學(xué)、非線性物理、光電學(xué)、稀釋活性源、LB膜、超分子構(gòu)型等領(lǐng)域都有廣泛的用途 。

摘要 SCI-200 LB膜拉膜機(jī)及顯微觀測系統(tǒng)多功能拉膜裝置可以與布魯斯特角顯微鏡、紅外顯微鏡、熒光顯微鏡、X射線顯微鏡等設(shè)備聯(lián)用，觀察單分子層的有序現(xiàn)象 、單分子層向多分子層的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變、表面吸附動力學(xué)、單相的現(xiàn)場聚會、LB膜均勻性質(zhì)量、相分離 .

摘要 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點：不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

摘要 自動涂膜機(jī)本機(jī)采用數(shù)字控制技術(shù)，數(shù)字顯示選擇雙向速度和位移，涂布速度和涂布距離精確控制，實時顯示涂布實際移動距離，電動或手動返回均可，操作界面簡單明了，*方便了操作者的使用。

摘要 微型自動涂膜機(jī)（真空/夾具）本機(jī)采用單片機(jī)控制技術(shù)；觸摸屏顯示、選擇左、右行速度和位移，運(yùn)行時實時顯示涂布實際移動距離；涂布架返回電動或手動均可；操作界面簡單明了，*方便操作者使用；為方便使用，還增加了左、右行啟動/停止機(jī)械按鈕和急停機(jī)械按鈕。

摘要近距離蒸發(fā)鍍膜爐具有11“外徑的石英管。它是專為PVD或CSS（近距離升華）薄膜涂層3英寸直徑或2“×2“。采用兩組鹵素加熱器（頂部和底部），zui大加熱速率20ºC/s。兩個30段精密溫度控制器內(nèi)置，精度為+/-1ºC。包括RS485端...

摘要 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

摘要 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。廣泛應(yīng)用于科研院所，實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料新工藝研究。

摘要 小型3靶等離子濺射鍍膜儀帶有觸摸屏數(shù)字控制器和能夠加熱至500℃的基板加熱器?？梢詫?-3種金屬材料涂覆到直徑為50mm的樣品上。 有三個濺射靶：金、銀、銅包括在內(nèi)可立即使用。

摘要可編程溫控?zé)嵴舭l(fā)鍍膜儀共有4個蒸發(fā)源坩堝和精密的可編程溫度控制。 可以使用四個蒸發(fā)坩堝沉積多種不同的材料，以在相同的腔室氣氛中一個接一個地生長多層膜。該系統(tǒng)適用于涂覆大多數(shù)金屬和有機(jī)材料薄膜，尺寸至多為2“從200ºC至1500ºC（或200
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摘要800℃近距離蒸發(fā)鍍膜爐配有11“內(nèi)徑的石英室和5“×5“旋轉(zhuǎn)樣品架。它設(shè)計用于CSS（近距離升華）薄膜涂層，可達(dá)5“圓形或方形晶圓樣品，工作溫度可達(dá)800℃。爐體由兩組鹵素加熱器（頂部和底部）分別加熱，zui高溫度為10℃頂部樣品架可旋轉(zhuǎn)，實現(xiàn)高均勻性涂層...

摘要 可程控磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量、水冷卻及報警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。

摘要 電子束蒸發(fā)鍍膜儀E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成?？梢詮V泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。

摘要 激光鍍膜設(shè)備樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

摘要有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀主要由二個有機(jī)材料生長室組成，兩個有機(jī)材料生長室之間通過閘板閥聯(lián)接，其中一個生長室系統(tǒng)預(yù)留與手套箱對接接口，能夠完成二套獨立的制備薄膜系統(tǒng)之間互相傳送基片。的有機(jī)材料生長室主要由真空室腔體組件、有機(jī)蒸發(fā)源、熱阻蒸發(fā)舟、樣品傳遞裝置、樣品臺、膜厚監(jiān)測儀...

摘要 自動超聲噴霧熱解涂膜機(jī)是一種臺式超聲噴霧熱解設(shè)備，其中諸如溶液的分配速率和噴頭移動速度的參數(shù)由軟件界面準(zhǔn)確控制。由步進(jìn)電機(jī)控制的正排量泵用于根據(jù)需要分配溶液。

摘要磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜...

摘要 小型二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。

摘要雙靶磁控濺射鍍膜儀具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為300W射頻電源加500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客...

摘要 小型高真空二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。

摘要 小型蒸發(fā)鍍膜儀本儀器是一款，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。樣品臺距離蒸發(fā)源距離可調(diào)。

摘要 小型高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空緊湊型熱蒸發(fā)鍍膜儀，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。

摘要小型溫控蒸發(fā)鍍膜儀并精 確控制溫度在200ºC-1500ºC的范圍內(nèi)進(jìn)行變化，在對樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。本型號的小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有...

摘要 單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇

摘要三靶磁控濺射鍍膜儀一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，...

摘要 齊齊哈爾市直流接地系統(tǒng)故障查找儀 具有檢測靈敏度高、抗*力強(qiáng)、體積小、重量輕、使用方便等特點。查找直流系統(tǒng)接地故障時，不需要斷開電源，可實現(xiàn)接地點定位。儀器能檢測直流系統(tǒng)接地電阻阻值和接地方向

摘要精密光學(xué)鍍膜設(shè)備該設(shè)備采用 e 型電子槍蒸發(fā)源，可蒸發(fā)各種高熔點金屬和氧化物 ，可在玻璃，塑料,陶瓷基體上鍍制各種多層薄,如:紅外膜、寬帶增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止濾光片、偏振膜、電學(xué)膜， 適用于眼鏡、光學(xué)鏡頭、精密光學(xué)元件、激光和電子行業(yè)的大規(guī)模...