單靶磁控濺射鍍膜儀
是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇
詳情介紹：
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護(hù)性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該與同類設(shè)備相比，經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
技術(shù)參數(shù)：
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樣品臺(tái) | 尺寸 | φ138mm | 控溫精度 | ±1℃ |
加熱溫度 | *高500℃ | 轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm可調(diào) | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2” x1 （1”,2”可選） | 水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
冷卻方式 | 水冷 |
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真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm × 215mm | 觀察窗口 | 全向透明 |
腔體材料 | 高純石英 | 開啟方式 | 頂蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號(hào) | CY-GZK103-A | 抽氣接口 | KF40 |
分子泵 | CY-600 | 排氣接口 | KF16 | |
前極泵 | 旋片泵 | 真空測量 | 復(fù)合真空計(jì) | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | 供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa | |||
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 ×1 | *大輸出功率 | 150W |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)尺寸 | 500mm × 350mm × 400mm |
整機(jī)功率 | 1.7KW（真空泵組1.5KW+本機(jī)0.2KW） | 整機(jī)重量 | 30kg | |
