三靶磁控濺射鍍膜儀
一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可
詳情介紹：
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實驗效率。
適用范圍：
可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
技術(shù)參數(shù)：
(直流電源) | ||||
樣品臺 | 尺寸 | φ185mm | 控溫精度 | ±1℃ |
加熱溫度 | *高500℃ | 轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm可調(diào) | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2” ×3 （1”,2”可選） | 水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
冷卻方式 | 水冷 |
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真空腔體 | 腔體尺寸 | φ300mm × 300mm | 觀察窗口 | φ100mm |
腔體材料 | 不銹鋼 | 開啟方式 | 上頂開式 | |
質(zhì)量流量計 | 2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） | |||
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號 | CY-GZK103-A | 抽氣接口 | KF40 |
分子泵 | CY-600 | 排氣接口 | KF16 | |
前極泵 | 旋片泵 | 真空測量 | 復(fù)合真空計 | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | 供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa | |||
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 ×3 | *大輸出功率 | 直流電源500W |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm |
整機(jī)功率 | 3KW | 整機(jī)重量 | 300kg | |
