真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。中文名真空鍍膜機外文名vacuumcoatingmachine別名真空鍍膜設備主要思路采用等離子技術,在真空條件下,制備純度高的金屬膜、化合物膜等適用范圍半導體、顯示、光伏、工具鍍膜、裝飾鍍膜、功能鍍膜等。1簡介需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使
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