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  • 霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕 鍍膜機(jī)

霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕 鍍膜機(jī)

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  • 型號(hào)
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  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2022-10-06
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3537
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位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國(guó)Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國(guó)外的高科技產(chǎn)品與中國(guó)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進(jìn)國(guó)內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動(dòng)現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國(guó), 堅(jiān)持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠(chéng)信、互動(dòng)、共贏的價(jià)值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時(shí),提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時(shí)周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個(gè)誠(chéng)信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

 

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上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在小型離子蝕刻機(jī)中的 KRI 霍爾離子源 EH 400 HC, 對(duì) 2英寸硅芯片蝕刻,霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕
霍爾離子源典型應(yīng)用 IBE 離子刻蝕 鍍膜機(jī) 產(chǎn)品詳情

離子源應(yīng)用于離子刻蝕 IBE
上海伯東代理美國(guó)考夫曼 KRI 離子源, 其產(chǎn)品霍爾離子源 EH400 HC 成功應(yīng)用于離子蝕刻 IBE.
霍爾離子源離子抨擊能量強(qiáng), 蝕刻效率快, 可因應(yīng)多種基材特性, 霍爾源單次使用*, 耗材成本極低, 操作簡(jiǎn)易, 安裝簡(jiǎn)易, 因此美國(guó)考夫曼霍爾離子源廣泛應(yīng)用于蝕刻制程及基板前處理制程.

霍爾離子源客戶案例一: 某大學(xué)天文學(xué)系小尺寸刻蝕設(shè)備
系統(tǒng)功能: 對(duì)于 Fe, Se, Te ,PCCO 及多項(xiàng)材料刻蝕工藝.
樣品尺寸: 2英寸硅芯片.
刻蝕設(shè)備: 小型刻蝕設(shè)備. 選用上海伯東美國(guó)考夫曼品牌霍爾離子源 EH400 HC
上海伯東離子源 EH400HC
霍爾離子源 EH400HC 安裝于刻蝕腔體內(nèi)
上海伯東美國(guó)考夫曼離子源
離子源 EH400HC 自動(dòng)控制單元
上海伯東美國(guó)考夫曼離子源控制器
霍爾離子源 EH400HC 通氬氣
離子源通氬氣
對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 霍爾離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >20 A/Sec
上海伯東考夫曼離子源蝕刻速率
對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 霍爾離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >17 Å/Sec
上海伯東美國(guó)離子源蝕刻速率

鑒于信息保密. 更詳細(xì)的離子源應(yīng)用歡迎

霍爾離子源 EH400HC 特性:
高離子濃度, 低離子能量
離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳
提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
增加光學(xué)膜后折射率 (Optical index)      
全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 操作簡(jiǎn)易
低耗材成本, 安裝簡(jiǎn)易

 


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