NorthStar ALD系統(tǒng)介紹:
NorthStar ALD原子層沉積系統(tǒng)提供各種淀積方法,包括熱淀積以及能量增強淀積。
每臺設備可以提供多達8個源管路以及一個熱壁淀積腔,使其應用范圍極為廣泛。
設備的快速艙口蓋或裝載室(可選件)使樣品操作快捷方便。
NorthStar ALD系統(tǒng)不但能跟其他設備連接起來,還能連接多種測量儀器。
原位測量工具以及RoboALD軟件自動化系統(tǒng)提高了工藝的再現(xiàn)性。
可以直接升級至超高真空
提供工藝演示以及工藝培訓服務
為潛在客戶提供免費樣品測試。
應用領域:
High-K電介質(zhì)
納米涂層
MEMS
光子晶體
擴散阻擋層
器件封裝
表面改性層
技術參數(shù):
為科研客戶量身打造的原子層沉積系統(tǒng)。
提供4"、6"、8"、12"等多種尺寸的樣品平臺。
針對客戶的需求,提供多種輸氣設計。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---氣道加熱
---氣體快速進出
---樣品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加熱: up to 300 ℃, optional higher temp
主要特點:
zui安全的設計,多樣化的配置,*的測試手段。
精確的控制手段打造*的成膜質(zhì)量。強大的科研團隊鑄就的科技實力。
---氣體離子化
---臭氧輸送裝置
---石英振蕩器
---四重質(zhì)量分光計
---實時溫度顯示
---橢偏儀
---進樣室