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儀表網(wǎng)>全部分類 >測量/計量 >光學(xué)測量 >橢偏儀 更新時間:2024-09-24 返回產(chǎn)品中心
橢偏儀

橢偏儀[1-2]是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量儀器。由于測量精度高,適用于超薄膜,與樣品非接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種吸引力的測量儀器。中文名橢偏儀...

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  • 摘要分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000在線光譜橢偏儀SE-3000,在線光譜橢偏儀μSE-2500,分光橢偏儀SE-2100 (旋轉(zhuǎn)補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉(zhuǎn)補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉(zhuǎn)補償器型),激光橢圓儀LE-510...

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  • 摘要BX-G105教學(xué)激光橢偏儀是基于消光法(或稱“零橢偏”)測量原理,針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學(xué)儀器。BX-G105儀器適用于納米薄膜的厚度測量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。教學(xué)激光橢偏儀還可用于同時測量塊狀材料(如,金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì))的...

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  • 摘要BX-G104納米光伏專用激光橢偏儀針對光伏太陽能電池推出的專用型多入射角激光橢偏儀。BX-G104用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度,以及在632.8nm下折射...

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  • BX-G103激光橢偏儀
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    摘要BX-G103激光橢偏儀可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準(zhǔn)確測量??捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計...

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  • 摘要BX-G102紫外廣義光譜橢偏儀BX-G102紫外廣義光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境推出的高精度快速攝譜型廣義光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 廣義光譜橢偏儀采用寬帶超消色差補償器、利用步進補償器掃描測量采樣模式、基于高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于...

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  • 摘要BX-G101高精度靈敏光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k...

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  • 摘要 全自動化&高集成度&可視化光斑操作簡單,測試快速,為一般操作工人設(shè)計一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE——新型的全自動薄膜測量分析工具。采用工業(yè)化設(shè)計,操作簡單,可在幾秒鐘內(nèi)完成全自動測量和分析,并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質(zhì)量控制理想的解決方案。

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  • 摘要 Smart SE智能型多功能橢偏儀是一款針對單層和多層薄膜進行簡單,快速,精確表征和分析的工具。多功能性設(shè)計,配置靈活,具備多角度測量能力,可方便實現(xiàn)在線與離線配置切換。

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  • 摘要 Film Sense FS-1™多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器,可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現(xiàn)快速和可靠地薄膜測量。大多數(shù)厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要簡單的 1 秒測量,就可以獲得非常精密和準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。

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  • SE-VE光譜橢偏儀
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    摘要 SE-VE光譜橢偏儀 本設(shè)備基于單旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜,可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

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  • 摘要 激光橢偏儀 SE 400adv 測量透明薄膜的厚度和折射率指數(shù),具有測量速度、亞埃級別的厚度精度和折射率測定的精度。多角度測量允許使用激光橢偏儀 SE 400adv 表征吸收膜特征。

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  • 摘要 光譜橢偏儀 SENpro 具有操作簡單,測量速度快,能對不同入射角的橢偏測量數(shù)據(jù)進行組合分析等特點。光譜范圍為 370 到 1050 nm。SENpro 的光譜范圍與精密的 SpectraRay/4 軟件相結(jié)合,可輕易地確定單層膜和復(fù)合層疊膜的厚度和折射率。

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  • FS 多波長橢偏儀
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    摘要 Innovative˙Powerful˙Affordable設(shè)計創(chuàng)新˙功能強大˙經(jīng)濟實惠FilmSenseFS-1多波長橢偏儀采用壽命長LED光源和非移動式部件橢偏探測器,可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現(xiàn)快速和可靠地薄膜測量

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  • FS新一代多波長橢偏儀
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    摘要 FilmSense新一代多波長橢偏儀系統(tǒng)現(xiàn)已問世

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  • 摘要 Radiation 全光譜橢偏儀

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  • 摘要 SE500橢偏儀薄膜測量薄膜材料的厚度、NK性能250-1700nm產(chǎn)品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 摘要 SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度產(chǎn)品簡介SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 摘要 SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備產(chǎn)品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 全自動光譜型橢偏儀
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    摘要全自動光譜型橢偏儀儀器介紹: UVISEL2是一款革新的全自動光譜型橢偏儀。繼承并發(fā)展了經(jīng)典機型UVISEL的高準(zhǔn)確性、高靈敏度和高穩(wěn)定性等技術(shù)特點的同時,配備革新的可視系統(tǒng),多達8個尺寸微光斑選項,最小達3585m2,適用于所有薄膜材料研究領(lǐng)域。是目前市場...

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  • 橢偏儀冷熱臺 RTL500-GP
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    摘要 用于橢偏儀或其它光譜儀等設(shè)備。

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  • 太陽能電池專用橢偏儀
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    摘要 太陽能電池專用橢偏儀

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  • 激光橢偏儀:PH-LE
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    摘要 多角度激光橢偏儀(PH-LE型)專門針對晶硅太陽能電池絨面上的減反膜測量,能夠測量薄膜厚度及其光學(xué)常數(shù),使用632.8nm波長氦氖激光器,具有的精確度和準(zhǔn)確度

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  • 光譜橢偏儀:PH-SE
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    摘要 光譜橢偏儀(PH-SE型)針對太陽能電池應(yīng)用,可測量多晶硅/單晶硅絨面表面單層(二層或多層)減反射膜、和玻璃/有機基底上的薄膜太陽能電池

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  • 摘要 簡要描述:EMPro是針對研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的型多入射角激光橢偏儀。

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  • ME-LME-L 穆勒矩陣橢偏儀
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    摘要 簡要描述:穆勒矩陣橢偏儀

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  • SE-VMSE-VM光譜橢偏儀
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    摘要 簡要描述:SE-VM 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀??赏ㄟ^橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。

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  • SE-LSE-L光譜橢偏儀
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    摘要 簡要描述:SE-L 是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術(shù),采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動測量模塊。

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  • 摘要 簡要描述:SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀。

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  • SE-PVSE-PV光伏橢偏儀
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    摘要 簡要描述:SE-PV 是一款光伏行業(yè)領(lǐng)域?qū)S眯凸庾V橢偏儀,針對光伏行業(yè)絨面單晶硅或多晶硅太陽能電池表面減反膜測量定制開發(fā),快速實現(xiàn)薄膜物性表征分析。

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  • SE-VESE-VE光譜橢偏儀
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    摘要 簡要描述:SE-VE 是一款、快速測量光譜橢偏儀,緊湊集成設(shè)計,使用簡便,可一鍵快速測量表征各式光學(xué)薄膜膜厚以及光學(xué)常數(shù)等信息。

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  • 摘要 UVISEL 研究級經(jīng)典型橢偏儀

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  • 摘要產(chǎn)品詳情簡介儀器簡介:UVISEL2是一款革新的全自動光譜型橢偏儀。繼承并發(fā)展了經(jīng)典機型UVISEL的高準(zhǔn)確性、高靈敏度和高穩(wěn)定性等技術(shù)特點的同時,配備革新的可視系統(tǒng),多達8個尺寸微光斑選項,最小達3585m2,適用于所有薄膜材料研究領(lǐng)域。是目前市場上無二的機型。 詳...

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  • 摘要 Gaertner Stokes Waferskan橢偏儀LSE-WS,Gaertner stokes waferskan™ ellipsometer LSE-WS

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  • 摘要 Gaertner stokes 微點橢偏儀LSE-MS,Gaertner stokes microspot ellipsometer LSE-MS

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  • 橢偏儀
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    摘要 橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量儀器

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  • 光譜橢偏儀
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    摘要 通過橢偏參數(shù)、透射/反射等參數(shù)測量,實現(xiàn)各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學(xué)常數(shù)快速表征

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  • ME-L 穆勒矩陣橢偏儀
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    摘要 ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補償器、雙旋轉(zhuǎn)補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。

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  • 橢偏儀——SE500
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    摘要 圖片簡介SE500橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 橢偏儀——SE300
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    摘要 圖片簡介SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 橢偏儀——SE200BA-M300
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    摘要 圖片簡介橢偏儀——SE200BA-M300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

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  • 摘要橢偏儀測量介電常數(shù)GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻(包括米波波長在內(nèi))下電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數(shù)和介質(zhì)損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久電...

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  • 摘要靜態(tài)介電常數(shù)橢偏儀GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻(包括米波波長在內(nèi))下電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數(shù)和介質(zhì)損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久電...

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  • 膜厚測試儀器-橢偏儀
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    摘要 本設(shè)備基于雙旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、R/T等光譜,可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

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  • 光譜橢偏儀
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    摘要 SE-VE橢偏儀是基于單旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜,可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

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  • 摘要橢偏儀折射率介電常數(shù)GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻(包括米波波長在內(nèi))下電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數(shù)和介質(zhì)損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久...

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  • 分光橢偏儀SEMILAB在線光

    分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000
    在線光譜橢偏儀SE-3000,在線光譜橢偏儀μSE-2500,分光橢偏儀SE-2100 (旋轉(zhuǎn)補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉(zhuǎn)補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉(zhuǎn)補償器型),激光橢圓儀LE-5100
  • 教學(xué)激光橢偏儀

    BX-G105教學(xué)激光橢偏儀是基于消光法(或稱“零橢偏”)測量原理,針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學(xué)儀器。BX-G105儀器適用于納米薄膜的厚度測量,以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。教學(xué)激光橢偏儀還可用于同時測量塊狀材料(如,金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì))的折射率n和消光系數(shù)k。
  • 納米光伏專用激光橢偏儀

    BX-G104納米光伏專用激光橢偏儀針對光伏太陽能電池推出的專用型多入射角激光橢偏儀。BX-G104用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。 BX-G104融合多項量拓科技技術(shù),采用單多晶一體化樣品臺技術(shù),兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品,并實現(xiàn)二者的瞬間
  • 激光橢偏儀

    BX-G103激光橢偏儀可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準(zhǔn)確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。
  • 紫外廣義光譜橢偏儀

    BX-G102紫外廣義光譜橢偏儀BX-G102紫外廣義光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境推出的高精度快速攝譜型廣義光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 廣義光譜橢偏儀采用寬帶超消色差補償器、利用步進補償器掃描測量采樣模式、基于高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于測量納米薄膜樣品、塊狀材料和各向異性材料。
  • 高精度靈敏光譜橢偏儀

    BX-G101高精度靈敏光譜橢偏儀針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k,或介電函數(shù)ε1和ε2),也可用于測量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)。
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