美國(guó)SVT公司PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)用于沉積金屬薄膜,氧化物薄膜,多元素材料薄膜的脈沖激光沉積系統(tǒng),可以與多種薄膜制備設(shè)備連用。憑借多年的科研與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),我公司為許多科研用戶獨(dú)立打造了PLD-MBE連用系統(tǒng),PLD-UHV Suptter連用系統(tǒng)等。
應(yīng)用:
ZnO材料功能薄膜
STO薄膜
金屬薄膜
超導(dǎo)薄膜
鐵電功能薄膜
功能陶瓷膜
技術(shù)參數(shù):
超高真空E-10Torr
四/六靶靶臺(tái) 可公轉(zhuǎn),自轉(zhuǎn)
溫度加熱臺(tái)到1000oC
靈活的泵組合
線形運(yùn)動(dòng)擋板
在線檢測(cè)系統(tǒng)(溫度,厚度)
配備高能量激光器
主要特點(diǎn):
RF射頻等離子源(氧,氮)
升級(jí)高真空
增加進(jìn)樣室
升級(jí)為L(zhǎng)aser-MBE (L-MBE)系統(tǒng)
自動(dòng)軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長(zhǎng)環(huán)境,*的溫度控制解決方案.
www.spibj.com