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  • KRi 射頻離子源應(yīng)用于IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

KRi 射頻離子源應(yīng)用于IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

參考價(jià)
300000-1920000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2023-03-14
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3365
產(chǎn)品標(biāo)簽

離子源射頻離子源鍍膜

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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟(jì)和社會(huì)的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進(jìn)國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動(dòng)現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國, 堅(jiān)持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠信、互動(dòng)、共贏的價(jià)值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時(shí),提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時(shí)周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個(gè)誠信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

 

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上海伯東美國 KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源 RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 超導(dǎo)體等.
KRi 射頻離子源應(yīng)用于IBE 離子束蝕刻系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

上海伯東美國 KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源  RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE  離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 超導(dǎo)體等.

離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其核心部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的核心部件, KRi  射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng), 滿足各種材料刻蝕需求!  氣體通入離子源的放電室中,  電離產(chǎn)生均勻的等離子體, 由離子源的柵極將正離子引出并加速, 然后由中和器進(jìn)行中和. 利用引出的帶有一定動(dòng)能的離子束流撞擊樣品表面, 通過物理濺射將材料去除, 進(jìn)而獲得刻蝕圖形. 這一過程屬于純物理過程, 一般運(yùn)行在較高的真空度下.

IBE 類型設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)主要是等離子體的產(chǎn)生遠(yuǎn)離晶圓空間, 通過柵網(wǎng)拉出的離子束的能量和密度可以獨(dú)立控制; 其次 IBE 的晶圓載臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn), 并通過角度調(diào)整, 實(shí)現(xiàn)傾斜入射.
KRi 射頻離子源典型應(yīng)用: 12英寸, 8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

KRi 射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 陽極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻
2kw & 1.9 ± 0.2 MHz

RF 射頻
2kw & 1.8 MHz

離子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射


流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直徑

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000

上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)
RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應(yīng)器, 中和器, 電源控制等
RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRi 射頻離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生    


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