價格電議
考夫曼離子源 RFICP 380 特性:
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時間更長.
2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計
3. 自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運行
4. 柵極材質(zhì)鉬和石墨,堅固耐用
5. 中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發(fā)射,確保電荷中性
6. 通氣 Ar, O2, N2, others
7. 離子束流: 電流: > 500毫安, 能量 100-1200eV
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)
考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.
考夫曼離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)
型號 | RFICP 380 |
放電腔 Discharge | 射頻 |
大功率 | >1kW |
大離子束電流 | >1000mA |
電壓 | 100-1500V |
氣體 | 惰性和活性 |
流量 | 5-50sccm |
真空度 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué)(自適應(yīng)) | OptiBeamTM |
離子束直徑@ grids | 38cm Φ (maximum) |
柵極材質(zhì) | 鉬 |
離子束形狀 | 平行. 聚焦, 發(fā)散 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 15” (38.1cm) |
直徑 | 22.9” (58.2cm) |
Feedthrough direct | 12”CF |
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