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Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 用于刻蝕硅微機(jī)械陀螺芯片

來(lái)源：上海伯東企業(yè)有限公司 2020年11月24日 15:14

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 用于刻蝕硅微機(jī)械陀螺芯片

某芯片實(shí)驗(yàn)室為了解決芯片濕法刻蝕難以解決的橫向腐蝕問(wèn)題, 引進(jìn)伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 用于刻蝕硅微機(jī)械陀螺芯片.

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 技術(shù)規(guī)格:

該實(shí)驗(yàn)室采用的 Hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 的核心構(gòu)件離子源是配伯東公司代理美國(guó) 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 75

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC75 技術(shù)參數(shù)：

* 可選: 一個(gè)陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架

試驗(yàn)結(jié)果:

Hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 刻蝕出的芯片表面平整、光滑,解決了濕法刻蝕難以解決的橫向腐蝕問(wèn)題,并提高了刻蝕速率.

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