我公司能夠提供下列服務(wù):
電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線寬為7nm的圖像;
紫外曝光:可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜,最小線條為1um;
牛津深硅刻蝕,深寬比至少可以達到10:1,可以把250um的硅片刻蝕穿透,且側(cè)壁陡直光滑、不長草;
德國 ICP等離子刻蝕,可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導(dǎo)體等材料;
測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導(dǎo)體分析儀、AFM、XPS以及劃片機(切割硅片、玻璃、藍寶石等)等
歡迎新老客戶聯(lián)系咨詢!