關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、
過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT
型號:MU700S; 產(chǎn)地:歐洲;
應(yīng)用:過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;
代表性用戶:法國科學(xué)研究中心(CNRS)、意法半導(dǎo)體(ST)
RFICP源:束徑可達 220 mm
采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統(tǒng)
均勻性:+/- 5% on 290 mm襯底
水冷樣品臺,襯底尺寸可達直徑300mm
樣品臺可以傾斜和旋轉(zhuǎn)
配套SIMS用于刻蝕監(jiān)控
配置Load Lock