離子減薄技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場(chǎng) 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動(dòng)量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對(duì)樣品進(jìn) 行減薄，最終實(shí)現(xiàn)樣品能夠達(dá)到透 射電鏡所需的電子束穿透厚度。
- 兩支獨(dú)立可調(diào)電磁聚焦離子槍
同時(shí)具備高能量(快速拋光)和低能量(精細(xì)修復(fù))
超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下，離子束束斑均保持最細(xì)束斑狀態(tài)
每支離子槍均配備對(duì)應(yīng)法拉第杯進(jìn)行離子束直接探測(cè)
采用可調(diào)節(jié)10英寸觸屏控制系統(tǒng)，人機(jī)界面友好，操作簡(jiǎn)潔
自動(dòng)獨(dú)立氣源控制
減薄角度范圍：-15°到 +10°連續(xù)可調(diào)
樣品載臺(tái)X-Y可調(diào)，可根據(jù)需要調(diào)整樣品減薄位置
具備原位實(shí)時(shí)觀察及記錄減薄過程功能
樣品可360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)或搖擺，離子束自動(dòng)避讓樣 品夾
可通過時(shí)間、溫度以及透光性自動(dòng)停止
可選液氮冷臺(tái)配置，去除熱效應(yīng)對(duì)樣品的損傷
可選真空或惰性氣體轉(zhuǎn)移裝置，隔絕樣品與水氧接觸
| Model 1051 TEM Mill 技術(shù)規(guī)格 | |
離子源 | 兩支TrueFocus電磁聚焦離子源 可變能量范圍100 eV到10 keV ，束流 密度可達(dá)10 mA/cm2 減薄角度 ?15° 到 +10?連續(xù)可調(diào) 可選擇單槍或雙槍工作模式 兩支離子槍能量可獨(dú)立調(diào)節(jié) 可選手動(dòng)或自動(dòng)馬達(dá)離子槍 離子束角度、束斑大小均可調(diào)節(jié) |
| 樣品夾 | 的裝樣設(shè)計(jì)及導(dǎo)熱性能 裝載設(shè)計(jì)，能夠滿足至零度單面/雙面 減薄均無陰影 可選帶X-Y調(diào)節(jié)裝樣樣品夾 |
| 樣品臺(tái) | 樣品尺寸: 3 mm 直徑 x 250 µm厚度 360? 旋轉(zhuǎn)且轉(zhuǎn)速可調(diào)，同時(shí)樣品臺(tái)可搖擺 磁編碼器提供定位精度 |
| 液氮冷臺(tái) | 可選液氮冷臺(tái)設(shè)計(jì)，冷卻時(shí)間分為3-5小時(shí) 和18小時(shí)以上兩種 -170℃~室溫，具備自動(dòng)程序化控溫設(shè)計(jì) |
| 自動(dòng)終止 | 可根據(jù)時(shí)間、溫度或透光性自動(dòng)終止減薄 |
| 真空系統(tǒng) | 80L/s分子泵加多級(jí)無油隔膜泵 配有寬量程真空規(guī) |
| 真空轉(zhuǎn)移 | 可選真空轉(zhuǎn)移或惰性氣體保護(hù)下轉(zhuǎn)移升級(jí) |
| 氣源 | 99.999%高純氬氣，使用壓力 15 psi 配備精確氣體質(zhì)量流量計(jì) |
| 人機(jī)界面 | 10英寸觸屏設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)配方編程控制 可選遠(yuǎn)程燈光指示器 |
| 電源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
