關(guān)鍵詞：RIE、RIBE、反應(yīng)離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、
過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT
型號：MU 450; 產(chǎn)地：歐洲；
應(yīng)用：過渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;
代表性用戶：法國科學(xué)研究中心（CNRS）、意法半導(dǎo)體（ST）
基本配置如下：
主腔體：不銹鋼原著腔體
真空系統(tǒng)：采用35m3/h干泵+1600l/s全磁性分子泵
采用潘寧真空計(jì)、膜片真空計(jì)
真空度≤3×10-7mbar
20min 內(nèi)抽真空到2×10-6mbar
樣品臺(tái)：馬達(dá)驅(qū)動(dòng)、水冷可接納4/6英寸襯底，
可以旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速2-20rpm，
可以在0-180°傾斜，精度和可重復(fù)性優(yōu)于0.1°
樣品臺(tái)傾斜不改變襯底與離子源之間的距離
ICP源：束能100-1000eV，束流＞500mA@1000eV
均勻性：±3% on 90mm, ±6% on 140 mm
氣路：兩條氬氣氣路，分別配置MFC（50sccm，10sccm）
刻蝕監(jiān)控：SIMS，分子泵240l/s+機(jī)械泵5m3/h，潘寧/皮拉尼真空計(jì)
Z方向運(yùn)動(dòng)：馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，量程75mm
濺射源：3英寸磁控陰極帶靶源
氧氣氣路，配帶10sccm MFC
馬達(dá)驅(qū)動(dòng)高度方向移動(dòng)，量程100mm
13.56MHz，300W 射頻電源
均勻性優(yōu)于±5%@100mm
控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制，半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用
支持多級用戶權(quán)限設(shè)置和管理
支持設(shè)備遠(yuǎn)程操作、監(jiān)控、診斷和維護(hù)
系統(tǒng)自動(dòng)報(bào)警及定位故障
