詳細(xì)摘要： 本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：杭州市更新時(shí)間：2024-04-03 在線(xiàn)留言杭州大華儀器制造有限公司
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杭州大華儀器制造有限公司
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詳細(xì)摘要： 本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成
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詳細(xì)摘要： 裝置將13.560MHz射頻源加至反應(yīng)室外的電感線(xiàn)圈,用電感耦合方式激勵(lì)氣體,使其放電產(chǎn)生等離子體.這種方式具有放電效率高、無(wú)電極放電污染的特點(diǎn),并可以獲得純凈...
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詳細(xì)摘要： 本系列實(shí)驗(yàn)裝置是一款緊湊型等離子薄膜濺射儀，專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)為在基底上鍍上金屬膜，如金，鉑，銦和銀等
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詳細(xì)摘要： DH2005:DH2006:裝置包括可拆卸的氣體放電管、測(cè)量系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)和水冷系統(tǒng)等部分組成
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜，以...
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：TablePVD-15一款小型電阻蒸發(fā)鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鋰電...
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Al、Au、Ag、Cu等），也可蒸鍍各種氧化物材料
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：該系統(tǒng)可用于開(kāi)發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鋰電池、有機(jī)膜等,用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀...
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：系統(tǒng)可用于開(kāi)發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等
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詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可以較準(zhǔn)確地控制，可以廣泛應(yīng)用于制備高...
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詳細(xì)摘要： 可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜
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詳細(xì)摘要： DH-450系列高真空鍍膜機(jī)為箱式前開(kāi)門(mén)電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，采用系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀(guān)更漂亮，使用更安全
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詳細(xì)摘要： 真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶(hù)群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glovebox無(wú)水、無(wú)氧、無(wú)塵的超純環(huán)境中，PVD與Glovebox（手套箱...
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詳細(xì)摘要： 為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱(chēng)為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法（PECVD）
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詳細(xì)摘要： DH-GCVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長(zhǎng)模式，可采用計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過(guò)控制，可以在10-3Torr—760Torr之間的任意氣...
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詳細(xì)摘要： 本裝置包含燒結(jié)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，供氣系統(tǒng)于一體，應(yīng)用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長(zhǎng)、石墨烯生長(zhǎng)以及復(fù)合碳材料的滲透等；也可用于氣相傳輸法材料合...
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詳細(xì)摘要： 超聲霧化熱解噴涂（UltrasonicSprayPyrolysis，USP）是一種重要的薄膜材料制備方法
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詳細(xì)摘要： 本系列裝置由我公司和材料物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合研制
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詳細(xì)摘要： 本裝置由我公司和材料物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合研制，由溫度控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和單晶爐爐體等部分組成
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