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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

杭州大華儀器制造有限公司


  • DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置

    詳細摘要: 本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制,由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成

    產(chǎn)品型號:所在地:杭州市更新時間:2024-04-03 在線留言

  • DHRP-1 電感耦合射頻等離子體裝置

    詳細摘要: 裝置將13.560MHz射頻源加至反應(yīng)室外的電感線圈,用電感耦合方式激勵氣體,使其放電產(chǎn)生等離子體.這種方式具有放電效率高、無電極放電污染的特點,并可以獲得純凈...

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  • DHPS 系列 直流濺射等離子體實驗裝置

    詳細摘要: 本系列實驗裝置是一款緊湊型等離子薄膜濺射儀,專門設(shè)計為在基底上鍍上金屬膜,如金,鉑,銦和銀等

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  • 直流輝光等離子體實驗裝置

    詳細摘要: DH2005:DH2006:裝置包括可拆卸的氣體放電管、測量系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)和水冷系統(tǒng)等部分組成

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  • Table PVD-10 磁控濺射系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng),該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源,可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如:ITO)等;廣泛應(yīng)用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜,以...

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  • Table PVD-15 金屬和有機物熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:TablePVD-15一款小型電阻蒸發(fā)鍍膜儀,主要特點是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作,適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電...

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  • MiniLab-30T PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Al、Au、Ag、Cu等),也可蒸鍍各種氧化物材料

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  • MiniLab-30S PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:該系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等

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  • MiniLab-60T PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復(fù)合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀...

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  • MiniLab-60S PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等

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  • MiniLab-125 PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 應(yīng)用領(lǐng)域:電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可以較準確地控制,可以廣泛應(yīng)用于制備高...

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  • DHMS 系列 磁控濺射鍍膜儀

    詳細摘要: 可采用直流(DC)濺射,濺射金屬靶材制備金屬膜,也可采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜

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  • DH-450 系列 高真空鍍膜機

    詳細摘要: DH-450系列高真空鍍膜機為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,采用系統(tǒng)框架,結(jié)構(gòu)緊湊,外觀更漂亮,使用更安全

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  • 手套箱蒸鍍 / 濺射一體機

    詳細摘要: 真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室,將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glovebox無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中,PVD與Glovebox(手套箱...

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  • DH-PECVD 等離子增強管式爐

    詳細摘要: 為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(PECVD)

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  • DH-GCVD 系列 石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: DH-GCVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長模式,可采用計算機自動控制,工作在常壓氣氛或真空條件,通過控制,可以在10-3Torr—760Torr之間的任意氣...

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  • DH-CVD-XX 系列 氣氛熱處理程控高溫爐

    詳細摘要: 本裝置包含燒結(jié)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),供氣系統(tǒng)于一體,應(yīng)用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復(fù)合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合...

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  • DH-USP 系列 超聲霧化熱解噴涂裝置

    詳細摘要: 超聲霧化熱解噴涂(UltrasonicSprayPyrolysis,USP)是一種重要的薄膜材料制備方法

    產(chǎn)品型號:所在地:杭州市更新時間:2024-04-03 在線留言

  • DH-AMF 系列 鎢極電弧真空熔煉爐

    詳細摘要: 本系列裝置由我公司和材料物理重點實驗室聯(lián)合研制

    產(chǎn)品型號:所在地:杭州市更新時間:2024-04-03 在線留言

  • ISSP-SHF 單晶爐

    詳細摘要: 本裝置由我公司和材料物理重點實驗室聯(lián)合研制,由溫度控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和單晶爐爐體等部分組成

    產(chǎn)品型號:所在地:杭州市更新時間:2024-04-03 在線留言

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