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DHMS 系列磁控濺射鍍膜儀

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更新時間：2024-04-03 15:41:19瀏覽次數(shù)：103次

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產(chǎn)品簡介

可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜

詳細介紹

可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜。可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

技術(shù)參數(shù)