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  • 科研型原子層沉積系統(tǒng)

FPPIC-R-200-standard 科研型原子層沉積系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)FPPIC-R-200-standard
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2023-06-19
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量10
  • 人氣值90
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孚光精儀公司品牌源于早期的東歐地區(qū)和德國(guó)進(jìn)口光學(xué)材料和儀器的進(jìn)口服務(wù)。公司創(chuàng)始股東們足跡遍布捷克,愛(ài)沙尼亞,羅馬尼亞,白俄羅斯,立陶宛,法國(guó),英國(guó),意大利,奧地利,丹麥,比利時(shí),以及德國(guó) 漢堡,法蘭克福,柏林,慕尼黑,紐倫堡,德累斯頓等科技強(qiáng)國(guó)和強(qiáng)市,對(duì)整個(gè)歐洲特別是東歐和德國(guó)的技術(shù)產(chǎn)品和精密儀器的質(zhì)量有可靠的把握。長(zhǎng)期以來(lái),德國(guó)在科學(xué)研究、技術(shù)創(chuàng)新和儀器研發(fā)領(lǐng)域具有的優(yōu)勢(shì)。德國(guó)的科學(xué)儀器以技術(shù)*,質(zhì)量可靠而著稱。孚光精儀早期專注于選擇德國(guó)和東歐國(guó)家可靠的供應(yīng)商,為用戶提供了道質(zhì)量保障。公司派送員工前往原廠進(jìn)行技術(shù)培訓(xùn),從而具備為遠(yuǎn)東地區(qū)用戶提供快速高效的技術(shù)服務(wù)能力,這一舉措深得用戶和制造商的高度贊譽(yù)。因此,孚光精儀的事業(yè)在服務(wù)客戶的同時(shí)獲得超常發(fā)展,快速成長(zhǎng)為*儀器的規(guī)模型供應(yīng)商和技術(shù)服務(wù)商。目前,孚光精儀已經(jīng)把產(chǎn)品原產(chǎn)地?cái)U(kuò)展到整個(gè)歐洲和美國(guó),形成了以歐洲和美國(guó)為供貨來(lái)源地的良好局面。
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科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD系芬蘭picosun公司R-200standard原子層沉積技術(shù),具有的熱壁設(shè)計(jì)和單獨(dú)的入口,可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝,適用于晶圓,3D對(duì)象和所有納米級(jí)特征上的多種材料
科研型原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情
科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD系芬蘭picosun公司R-200 standard原子層沉積技術(shù),具有的熱壁設(shè)計(jì)和單獨(dú)的入口,可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝,適用于晶圓,3D對(duì)象和所有納米級(jí)特征上的多種材料。
科研型原子層沉積系統(tǒng)具有專有的Picoflow™技術(shù),即使在挑戰(zhàn)性的通孔,超高長(zhǎng)寬比和納米顆粒樣品上也可以實(shí)現(xiàn)出色的均勻性。 R-200 standard原子層沉積配備了功能強(qiáng)大且易于更換的液態(tài),氣態(tài)和固態(tài)化學(xué)物質(zhì)前體源。與手套箱,粉末室和各種原位分析系統(tǒng)集成,無(wú)論您現(xiàn)在的研究領(lǐng)域是什么,或以后可能成為什么樣的研究領(lǐng)域,都可以進(jìn)行高效,靈活的研究,并獲得良好的結(jié)果。
科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),例如IC組件,MEMS器件,顯示器,LED,激光和3D對(duì)象,例如透鏡,光學(xué)器件,珠寶,硬幣和醫(yī)療植入物。熱ALD研究工具的市場(chǎng)領(lǐng)dao者。它已成為創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的公司和研究機(jī)構(gòu)的shou選工具。
科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD技術(shù)指標(biāo)
襯底尺寸和類型 50 – 200 mm /單片
zui大可沉積直徑150 mm基片,豎直放置,10-25片/批次(根據(jù)工藝)
156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片
3D 復(fù)雜表面襯底(使用Showerhead噴灑淋浴模式效果更佳)
粉末與顆粒(配備擴(kuò)散增強(qiáng)器)
多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品
工藝溫度 50 – 500 °C, 可選更高溫度(真空腔體外壁不用任何冷卻方式即可保持溫度低于60 °C)
基片傳送選件 氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載)
預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手(Load lock )
前驅(qū)體 液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
4根du立源管線,zui多加載6個(gè)前驅(qū)體源
對(duì)蒸汽壓低的前驅(qū)體(1mbar~10mbar),用氮?dú)獾容d氣dao入前驅(qū)體瓶?jī)?nèi)引出
重量 350kg
尺寸( W x H x D)) 取決于選件
zui小146 cm x 146 cm x 84 cm
zui大189 cm x 206 cm x 111 cm
選件 PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器,集成橢偏儀,QCM, RGA,N2發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),手套箱集
成(用于惰性氣體下裝載)。
驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝


應(yīng)用領(lǐng)域
客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設(shè)備在150mm和200mm(6”和8”)晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數(shù)據(jù)。
材料 非均勻性(1σ)
AI2O3 (batch) 0.13%
SiO2 (batch) 0.77%
TiO2 0.28%
HfO2 0.47%
ZnO 0.94%
Ta2O5 1.00%
TiN 1.10%
CeO2 1.52%
Pt 3.41%
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