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儀表網(wǎng)>全部分類 >專用儀表 >其它行業(yè) >電子檢測儀器/半導(dǎo)體檢測儀器 更新時(shí)間:2024-11-17 返回產(chǎn)品中心
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電子檢測儀器/半導(dǎo)體檢測儀器

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最新產(chǎn)品\ NEW PRODUCT
  • 晶圓表面形貌高效測量分析

    WD4000晶圓表面形貌高效測量分析系統(tǒng)采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立表面3D層析圖像,實(shí)現(xiàn)Wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化(TTV)及分析反映表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)。
  • SiC GaN三代半功率器件參

    SiC功率半導(dǎo)體因優(yōu)勢成行業(yè)熱點(diǎn),但面臨復(fù)雜應(yīng)力挑戰(zhàn)。性能表征測試分靜態(tài)和動(dòng)態(tài),要求高。普賽斯提供一站式高精密測試解決方案,滿足行業(yè)高精度、大范圍測試需求,具有模塊化設(shè)計(jì),易用且可擴(kuò)展。 SiC GaN三代半功率器件參數(shù)分析儀認(rèn)準(zhǔn)普賽斯儀表咨詢
  • 數(shù)字源表IV掃描電子皮膚電

    數(shù)字源表IV掃描電子皮膚電性能參數(shù)就找普賽斯儀表,系統(tǒng)可以模擬扭、轉(zhuǎn)、彎、折、卷等5種基本測試動(dòng)作, 11個(gè)基礎(chǔ)模擬測試動(dòng)作,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用,讓柔性測試標(biāo)準(zhǔn)化。不僅可以測試柔性材料的折、彎、扭、拉、卷等五種基本動(dòng)作,而且可以進(jìn)行柔性材料的I-V特性測試,是目前研究柔性材料的重要測試系統(tǒng),能夠大幅提升開發(fā)驗(yàn)證效率和降低測試成本。
  • 柔性傳感器電性能測試源表

    柔性傳感器電性能測試源表IV曲線掃描可以模擬扭、轉(zhuǎn)、彎、折、卷等5種基本測試動(dòng)作, 11個(gè)基礎(chǔ)模擬測試動(dòng)作,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用,讓柔性測試標(biāo)準(zhǔn)化。不僅可以測試柔性材料的折、彎、扭、拉、卷等五種基本動(dòng)作,而且可以進(jìn)行柔性材料的I-V特性測試,是目前研究柔性材料的重要測試系統(tǒng),能夠大幅提升開發(fā)驗(yàn)證效率和降低測試成本。
  • 晶圓硅片厚度測量儀

    WD4000晶圓硅片厚度測量儀采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù),通過非接觸測量,在有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷同時(shí)實(shí)現(xiàn)Wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化(TTV)及分析反映表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)測量。
  • MEMS芯片VI測試數(shù)字源表

    MEMS芯片VI測試數(shù)字源表集電壓、電流的輸入輸出及測量等功能于一體??勺鳛楠?dú)立的恒壓源或恒流源、伏特計(jì)、安培計(jì)和歐姆表,還可用作精密電子負(fù)載。其高性能架構(gòu)還允許將其用作脈沖發(fā)生器,波形發(fā)生器和自動(dòng)電流-電壓(I-V)特性分析系統(tǒng),支持四象限工作。
  • 光伏電池片特性曲線測試VI

    光伏電池片特性曲線測試VI源表是對太陽能電池和各種其他器件的I-V特性進(jìn)行表征的最佳解決方案。其寬廣的電流和電壓測量范圍,可以為科研及生產(chǎn)制造提供著越的測量性能。結(jié)合太陽光模擬器以及專用的上位機(jī)軟件,支持自動(dòng)掃描I-V特性曲線以及開路電壓、短路電流、最大功率、填充因子、轉(zhuǎn)換效率等參數(shù)的測量,能極大簡化太陽能電池I-V測試效率,可以比以前更精確、更輕松的表征器件。
  • 晶圓/芯片微弱電流測試VI

    武漢普賽斯儀表晶圓/芯片微弱電流測試VI源表標(biāo)準(zhǔn)的SCPI指令集,Y秀的性價(jià)比,良好的售后服務(wù)與技術(shù)支持,集電壓源、電流源、電壓表、電流表、電子負(fù)載功能于一體,支持四象限工作
  • 半導(dǎo)體器件參數(shù)測試儀iv+c

    半導(dǎo)體器件參數(shù)測試儀iv+cv曲線分析具有高精度、寬測量范圍、快速靈活、兼容性強(qiáng)等優(yōu)勢。產(chǎn)品可以同時(shí)支持DC電流-電壓(I-V)、電容-電壓(C-V)以及高流高壓下脈沖式I-V特性的測試,旨在幫助加快前沿材料研究、半導(dǎo)體芯片器件設(shè)計(jì)以及先進(jìn)工藝的開發(fā),具有桌越的測量效率與可靠性。
  • 晶圓硅片表面3D量測系統(tǒng)

    WD4000晶圓硅片表面3D量測系統(tǒng)采用光學(xué)白光干涉技術(shù)、精密 Z 向掃描模塊和高精度 3D 重建算法,Z 向分辨率最高可到 0. 1nm。它通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
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