光束線同步PLD系統(tǒng),新型脈沖激光沉積系統(tǒng)適合原位同步衍射/散射研究,精確了解影響薄膜界面形成和生長的機制。同步輻射X射線衍射和反射是研究薄膜結(jié)構(gòu)和界面的一種重要方法。然而，至關(guān)重要的是，這些樣品不能暴露在大氣中，因為即使是亞單層污染也可能破壞表面效應或改變薄膜。
SURFACE原位光束線同步PLD系統(tǒng)是一種功能齊全的脈沖激光沉積系統(tǒng)，可用于同步加速器光束線。該設計的緊湊占地面積使系統(tǒng)能夠安裝在測角儀上。
光束線同步PLD系統(tǒng)保持了標準實驗室系統(tǒng)的多功能性，如用于多個目標的目標轉(zhuǎn)盤、高壓RHEED系統(tǒng)、用于樣品溫度高達1200°C的激光加熱系統(tǒng)以及帶有真空樣品存儲的負載鎖定系統(tǒng)。具有超精密旋轉(zhuǎn)（圍繞垂直于樣品表面的軸±135°）、平移（x/y方向±6 mm，z方向±3 mm）和傾斜（±5°）運動的樣品操縱器可以在不同的幾何結(jié)構(gòu)中進行衍射研究。操縱器的角度分辨率優(yōu)于0.001°。緊湊的設置為探測器在系統(tǒng)周圍的水平和垂直圓上的移動留出了足夠的空間，光束出射窗口覆蓋水平面上的55°（對于2θ=110°）和垂直面上的70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）。
光束線同步PLD系統(tǒng)特點
全功能PLD系統(tǒng)優(yōu)化用于同步加速器束線
緊湊的設計和集成的傳輸機構(gòu)允許在幾分鐘內(nèi)安裝到測角儀上
精密樣品操縱器可實現(xiàn)衍射研究的高分辨率基板旋轉(zhuǎn)和傾斜
襯底溫度高達1200°C的激光加熱
用于八個目標的目標操縱器，窄設計可實現(xiàn)基板的寬角度可達性
可變目標基板距離：35 mm至100 mm
分體式沉積室設計，易于接近所有部件進行維護和校準
鈹X射線窗在水平面上覆蓋55°（對于2θ=110°），在垂直面上覆蓋70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）
帶樣品儲存的集成負載鎖定室
差動泵RHEED系統(tǒng)（腔室壓力高達0.1毫巴），帶電動噴槍調(diào)節(jié)
用于PLD的各種波長（紫外、可見光、紅外）的YAG激光器
兩種不同工藝氣體的氣體供應，通過流量控制器和電動泄漏閥進行PID壓力控制