臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實(shí)施應(yīng)用提供了多種沉積選項(xiàng)?？裳b配電子束蒸發(fā)源E-beam,ORCA低溫蒸發(fā)源,熱蒸發(fā)源,磁控濺射等。
臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)是研究和開(kāi)發(fā)的理想選擇，因?yàn)樗哂心K化的特性。所有基本元件都可以訪問(wèn)，允許對(duì)各種組件進(jìn)行測(cè)試，并對(duì)幾種薄膜沉積技術(shù)中涉及的工藝進(jìn)行探索，包括：表面分析樣品制備，濺射，熱蒸發(fā)，有機(jī)物理氣相沉積等
基本型號(hào)中支持的方法包括：金屬和光刻膠剝離工藝，EM樣品制備，新型涂料研發(fā)，磁控濺射沉積優(yōu)化
用戶可購(gòu)買(mǎi)基本型號(hào)，在必要時(shí)升級(jí)到更高級(jí)別的組件，這些升級(jí)是模塊化的，安裝簡(jiǎn)單，減少了系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間和安裝成本。

臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)配有一個(gè)80升/秒的泵，可實(shí)現(xiàn)高達(dá)8×10^-7毫巴的基本真空，并可實(shí)現(xiàn)高至100毫米的樣品尺寸。該系統(tǒng)還配有一個(gè)多樣品支架，可同時(shí)容納幾個(gè)較小的樣品。
臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)可升級(jí)300升/秒的泵，可實(shí)現(xiàn)4×10^-7毫巴的基本真空。用戶也可以選擇一個(gè)較大的HEX-L室，其空間可容納多達(dá)150毫米的樣本，或多個(gè)較小的樣本。
臺(tái)式薄膜沉積系統(tǒng)由一個(gè)六面鋁框架高真空室組成，該室重量輕，但足夠堅(jiān)固，適用于大多數(shù)物理氣相沉積應(yīng)用。六邊形結(jié)構(gòu)支撐六塊模塊化面板，包括：
空白面板，“視口”面板，沉積源面板，PLD儀表過(guò)程控制面板，包括質(zhì)量流量控制器和厚度控制，用于現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)的QCM面板
該設(shè)計(jì)使用標(biāo)準(zhǔn)化配件，包括用于氣體和水連接的Hamlet快速接頭，以及用于樣品臺(tái)和部件附件的蝶形螺母。這種標(biāo)準(zhǔn)化使切換面板和根據(jù)特定應(yīng)用調(diào)整系統(tǒng)變得簡(jiǎn)單。模塊化設(shè)計(jì)還使維護(hù)和重新配置更快、更高效。