脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng)，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要優(yōu)點是將化學(xué)計量的材料從靶轉(zhuǎn)移到襯底。
SURFACE PLD工作站是一個優(yōu)秀的薄膜原型制作和研究系統(tǒng)，可方便地獲取新材料，尤其是高級氧化物層。
PLD脈沖激光沉積工作站將PLD系統(tǒng)的所有組件（包括激光和激光氣體供應(yīng)）集成到一個機架中。緊湊的設(shè)計能夠最靈活地使用系統(tǒng)，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關(guān)鍵，即使對于沒有PLD技術(shù)經(jīng)驗的用戶，也可以使用脈沖激光沉積PLD！
脈沖激光沉積PLD工作站以強大而緊湊的封裝提供*的沉積技術(shù)，適用于廣泛的應(yīng)用。盡管具有所有內(nèi)置的靈活性，但安全始終是優(yōu)先事項：
封閉的激光束線，帶有外部驅(qū)動的反射鏡調(diào)節(jié)，可安全地防止暴露于紫外線激光輻射
激光器和激光器氣體柜連接到外部排氣管
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站真空室：靈活性良好
工作站視口真空室是為研究而設(shè)計的。它具有適用于見的現(xiàn)場分析工具或其他系統(tǒng)擴展的備用法蘭：
光學(xué)分析方法：OES或FTIR
RHEED
質(zhì)譜儀器
額外的沉積或等離子源
此外，兩個窗口允許從兩個不同的角度和兩側(cè)對過程進(jìn)行視覺接觸。大前門可進(jìn)入主要工藝部件：靶材和基板操縱器。標(biāo)準(zhǔn)配置提供2“基板加熱器和4×2”分度目標(biāo)操縱器?？蛇x1“基板加熱器和激光加熱器。
為了調(diào)節(jié)工藝條件，標(biāo)準(zhǔn)配置了兩個用于將工藝氣體供應(yīng)至腔室的質(zhì)量流量控制器通道。它們能夠自動控制工藝氣氛和壓力。
通過結(jié)合控制軟件設(shè)計目標(biāo)操縱器，避免了目標(biāo)表面上的錐體形成，并保證了目標(biāo)的均勻磨損。激光束將以兩個不同的入射角照射目標(biāo)的每個點，因此無法形成影響燒蝕材料化學(xué)計量的錐體。
為了實現(xiàn)均勻的目標(biāo)磨損，沉積過程中有兩種不同的目標(biāo)運動模式：
搖擺：目標(biāo)轉(zhuǎn)盤以連續(xù)運動的方式來回移動，以便激光束在距離目標(biāo)中心任意半徑處擊中目標(biāo)。該模式易于設(shè)置，只需知道目標(biāo)直徑。
掃描：移動目標(biāo)轉(zhuǎn)盤，使激光束在目標(biāo)上“寫入”定義的軌跡。調(diào)整目標(biāo)旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復(fù)率。這實現(xiàn)了目標(biāo)表面的非常均勻的磨損。
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站控制軟件
所有SURAFCE PLD系統(tǒng)都高度自動化，以控制整個沉積過程。這確保系統(tǒng)易于操作。PlumeMaster軟件基于經(jīng)驗證的Windows XP Professional操作系統(tǒng)。具有單獨設(shè)置的幾個工藝步驟可以組合成一個沉積程序。直觀的過程可視化、具有數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能的高度靈活的數(shù)據(jù)記錄和自檢功能是附加功能。
所提供的軟件還包括SURFWARE——來自SURFACE的高級客戶支持工具：
與SURFACE支持組快速聯(lián)系
SURFACE支持工程師通過互聯(lián)網(wǎng)（TCP/IP）和集成網(wǎng)絡(luò)攝像頭提供視聽支持
支持工程師可以遠(yuǎn)程控制系統(tǒng)，同時保持視聽聯(lián)系
通過過程編程輕松解決硬件問題和客戶問題
通過互聯(lián)網(wǎng)的自動軟件更新程序
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站規(guī)格參數(shù)
激光：相干COMPexPro 201F或205F，脈沖能量0.7 J
波長：248 nm
激光氣體：20升預(yù)混氣體，10升氦氣，內(nèi)置氣體柜
工藝氣體：2個MFC通道，自動壓力控制
基板加熱器：直徑1“或2”，1000°C（其他尺寸可根據(jù)要求），或激光加熱器
基板旋轉(zhuǎn)：0至50 rpm
目標(biāo)：4×2“，目標(biāo)旋轉(zhuǎn)（0-50 rpm）和位置，帶有軌跡控制，磨損均勻
控制系統(tǒng)：基于PC的控制，集成TFT顯示器
IT功能：LAN連接、SURFWARE支持軟件
尺寸：約。2200×850×1600毫米³
電源：3×400 VAC/50 Hz或3×208 VAC/60 Hz
水冷：包括冷卻器（201F）
SURFACE PLD工作站是一個優(yōu)秀的薄膜原型制作和研究系統(tǒng)，可方便地獲取新材料，尤其是高級氧化物層。
PLD脈沖激光沉積工作站將PLD系統(tǒng)的所有組件（包括激光和激光氣體供應(yīng)）集成到一個機架中。緊湊的設(shè)計能夠最靈活地使用系統(tǒng)，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關(guān)鍵，即使對于沒有PLD技術(shù)經(jīng)驗的用戶，也可以使用脈沖激光沉積PLD！
脈沖激光沉積PLD工作站以強大而緊湊的封裝提供*的沉積技術(shù)，適用于廣泛的應(yīng)用。盡管具有所有內(nèi)置的靈活性，但安全始終是優(yōu)先事項：
封閉的激光束線，帶有外部驅(qū)動的反射鏡調(diào)節(jié)，可安全地防止暴露于紫外線激光輻射
激光器和激光器氣體柜連接到外部排氣管
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站真空室：靈活性良好
工作站視口真空室是為研究而設(shè)計的。它具有適用于見的現(xiàn)場分析工具或其他系統(tǒng)擴展的備用法蘭：
光學(xué)分析方法：OES或FTIR
RHEED
質(zhì)譜儀器
額外的沉積或等離子源
此外，兩個窗口允許從兩個不同的角度和兩側(cè)對過程進(jìn)行視覺接觸。大前門可進(jìn)入主要工藝部件：靶材和基板操縱器。標(biāo)準(zhǔn)配置提供2“基板加熱器和4×2”分度目標(biāo)操縱器?？蛇x1“基板加熱器和激光加熱器。
為了調(diào)節(jié)工藝條件，標(biāo)準(zhǔn)配置了兩個用于將工藝氣體供應(yīng)至腔室的質(zhì)量流量控制器通道。它們能夠自動控制工藝氣氛和壓力。
通過結(jié)合控制軟件設(shè)計目標(biāo)操縱器，避免了目標(biāo)表面上的錐體形成，并保證了目標(biāo)的均勻磨損。激光束將以兩個不同的入射角照射目標(biāo)的每個點，因此無法形成影響燒蝕材料化學(xué)計量的錐體。
為了實現(xiàn)均勻的目標(biāo)磨損，沉積過程中有兩種不同的目標(biāo)運動模式：
搖擺：目標(biāo)轉(zhuǎn)盤以連續(xù)運動的方式來回移動，以便激光束在距離目標(biāo)中心任意半徑處擊中目標(biāo)。該模式易于設(shè)置，只需知道目標(biāo)直徑。
掃描：移動目標(biāo)轉(zhuǎn)盤，使激光束在目標(biāo)上“寫入”定義的軌跡。調(diào)整目標(biāo)旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復(fù)率。這實現(xiàn)了目標(biāo)表面的非常均勻的磨損。
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站控制軟件
所有SURAFCE PLD系統(tǒng)都高度自動化，以控制整個沉積過程。這確保系統(tǒng)易于操作。PlumeMaster軟件基于經(jīng)驗證的Windows XP Professional操作系統(tǒng)。具有單獨設(shè)置的幾個工藝步驟可以組合成一個沉積程序。直觀的過程可視化、具有數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能的高度靈活的數(shù)據(jù)記錄和自檢功能是附加功能。
所提供的軟件還包括SURFWARE——來自SURFACE的高級客戶支持工具：
與SURFACE支持組快速聯(lián)系
SURFACE支持工程師通過互聯(lián)網(wǎng)（TCP/IP）和集成網(wǎng)絡(luò)攝像頭提供視聽支持
支持工程師可以遠(yuǎn)程控制系統(tǒng)，同時保持視聽聯(lián)系
通過過程編程輕松解決硬件問題和客戶問題
通過互聯(lián)網(wǎng)的自動軟件更新程序
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站規(guī)格參數(shù)
激光：相干COMPexPro 201F或205F，脈沖能量0.7 J
波長：248 nm
激光氣體：20升預(yù)混氣體，10升氦氣，內(nèi)置氣體柜
工藝氣體：2個MFC通道，自動壓力控制
基板加熱器：直徑1“或2”，1000°C（其他尺寸可根據(jù)要求），或激光加熱器
基板旋轉(zhuǎn)：0至50 rpm
目標(biāo)：4×2“，目標(biāo)旋轉(zhuǎn)（0-50 rpm）和位置，帶有軌跡控制，磨損均勻
控制系統(tǒng)：基于PC的控制，集成TFT顯示器
IT功能：LAN連接、SURFWARE支持軟件
尺寸：約。2200×850×1600毫米³
電源：3×400 VAC/50 Hz或3×208 VAC/60 Hz
水冷：包括冷卻器（201F）
