ALD 原子層沉積系統(tǒng)-儀表網(wǎng)

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眺望科技專注光電科技、半導(dǎo)體以及新能源行業(yè)。眺望科技自2005年成立以來, - -直致力于為客戶提供高品質(zhì)產(chǎn)品與服務(wù)。目前，眺望科技與多個(gè)國(guó)際品牌-直保持著長(zhǎng)期合作關(guān)系,主要包括美國(guó)AJA磁控濺射、離子刻蝕、電子束蒸發(fā)等PVD設(shè)備,美國(guó)AYMONT碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)工藝及設(shè)備，美國(guó)Digital Matrix*電鍍?cè)O(shè)備,德國(guó)SENTECH等離子體工藝設(shè)備等，美國(guó)Film Sense多波長(zhǎng)橢偏儀,德國(guó)ATL激光器以及徠卡LEICA光學(xué)顯微鏡等產(chǎn)品。行業(yè)應(yīng)用覆蓋半導(dǎo)體、真空鍍膜、光電科技以及材料分析等領(lǐng)域，服務(wù)范圍。眺望科技作為國(guó)際品牌代理商，依托良好的產(chǎn)品平臺(tái)和專業(yè)務(wù)實(shí)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，目前在國(guó)內(nèi)北京、上海、成都、重慶等城市分別設(shè)立辦事處，與國(guó)內(nèi)科研院和企事業(yè)單位也建立了良好的合作關(guān)系。我們期待能為您提供更多更專業(yè)的行業(yè)解決方案。

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原子層沉積（ALD）是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法

ALD 原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

原子層沉積（ALD）是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入前置物實(shí)現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強(qiáng)ALD性能的方法。

SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn)，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺(tái)PEALD設(shè)備。新的ALD設(shè)備應(yīng)用SENTECH橢偏儀，使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過程都能得到監(jiān)控。

SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術(shù)——超快在線橢偏儀來監(jiān)控逐層膜生長(zhǎng)。

臺(tái)PEALD設(shè)備已經(jīng)在布倫瑞克科技大學(xué)（TU Braunschweig）投入使用，用于生長(zhǎng)超高均勻性和密度的氧化膜，如Al²O³和ZnO等。

在Al²O³沉積過程中，三甲基鋁（TMA）等離子產(chǎn)生的氧原子反應(yīng)，襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點(diǎn)。

關(guān)鍵詞：橢偏儀

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