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PICOSUN™ ALD R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)( ALD R-200 Standard)

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  • 型號(hào)PICOSUN?ALDR-200Sta
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2022-10-05
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量12
  • 人氣值18
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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年,是一家經(jīng)營(yíng)歐美等國(guó)*科學(xué)測(cè)試儀器和設(shè)備,并將技術(shù)引入國(guó)內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè)。目前,公司在北京、上海、廣州、深圳、合肥、蘇州均設(shè)有辦事處。


公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來(lái)經(jīng)營(yíng)公司的業(yè)務(wù)(HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way)。 


公司的主營(yíng)儀器包括:分子相互作用分析儀器、機(jī)器視覺(jué)儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。


公司愿景:公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求,以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商,實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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原子層沉積系統(tǒng)( ALD R-200 Standard)
原子層沉積系統(tǒng)( ALD R-200 Standard) 產(chǎn)品詳情
名稱:原子層沉積系統(tǒng)
品牌:PICOSUN
產(chǎn)地:芬蘭
型號(hào):PICOSUN™ ALD R-200 Standard
PICOSUN™ R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的,易更換的前驅(qū)源系統(tǒng),能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的,分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。PICOSUN™ R系列的擴(kuò)展性使ALD工藝可以從研究環(huán)境直接過(guò)渡到生產(chǎn)環(huán)境的PICOSUN™ P系列ALD系統(tǒng)。由于研發(fā)型與生產(chǎn)型PICOSUN™反應(yīng)腔室核心設(shè)計(jì)特點(diǎn)都是相同的,這消除了實(shí)驗(yàn)室與制造車(chē)間之間的鴻溝。對(duì)大學(xué)來(lái)說(shuō),突破創(chuàng)新的技術(shù)轉(zhuǎn)化到生產(chǎn)中,就會(huì)吸引到企業(yè)投資。
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