PICOSUN™ ALD R-200 Advanced 原子層沉積系統(tǒng)（ALD R-200 Advanced）-儀表網(wǎng)

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公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來經(jīng)營公司的業(yè)務（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。

公司的主營儀器包括：分子相互作用分析儀器、機器視覺儀器、表/界面分析測試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。

公司愿景：公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應用為基礎的專業(yè)儀器設備供應商、專有技術提供商，實現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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原子層沉積系統(tǒng)（ALD R-200 Advanced）

原子層沉積系統(tǒng)（ALD R-200 Advanced）產(chǎn)品詳情

名稱：原子層沉積系統(tǒng)
品牌：PICOSUN
產(chǎn)地：芬蘭
型號：PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
PICOSUN™ R系列設備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個獨立的，分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。PICOSUN™ R系列的擴展性使ALD工藝可以從研究環(huán)境直接過渡到生產(chǎn)環(huán)境的PICOSUN™ P系列ALD系統(tǒng)。由于研發(fā)型與生產(chǎn)型PICOSUN™反應腔室核心設計特點都是相同的,這消除了實驗室與制造車間之間的鴻溝。對大學來說,突破創(chuàng)新的技術轉(zhuǎn)化到生產(chǎn)中，就會吸引到企業(yè)投資。

關鍵詞：原子層沉積系統(tǒng)

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