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  • 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Standard
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ALD R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Standard

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)ALDR-200Standard
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時(shí)間2018-05-15
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限第1年
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量64
  • 人氣值421
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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年,是一家經(jīng)營(yíng)歐美和日本等國(guó)*科學(xué)測(cè)試儀器和設(shè)備,并將*進(jìn)技術(shù)引入國(guó)內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè).經(jīng)過(guò)十年的發(fā)展，公司在北京、上海、廣州、武漢均設(shè)有辦事處。


    公司用受人尊敬的、專業(yè)的方式來(lái)經(jīng)營(yíng)公司的業(yè)務(wù)（HONOPROF comes from our philosophy---- doing business in an HONOurable and PROFessional way）。 


    公司的主營(yíng)儀器包括：分子相互作用分析儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、界面/混凝土流變儀、薄膜沉積與表征儀器等。


公司愿景：
    公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求，以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商，實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。

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原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Standard
PICOSUN™ R系列ALD產(chǎn)品能夠沉積高質(zhì)量薄膜，即使襯底結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜，如多孔材料、高深寬比的溝槽或者納米顆粒, 沉積的薄膜均勻性也極其優(yōu)異。Picosun功能強(qiáng)大、易更換的固、液、氣態(tài)前驅(qū)體輸運(yùn)系統(tǒng)確?？梢栽诠杵矫婊?D復(fù)雜基片及所有納米尺度的特征器件上制備無(wú)顆粒的薄膜。
原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Standard 產(chǎn)品詳情

原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)
襯底尺寸和類型

50 – 200 mm /單片
zui大可沉積直徑150 mm基片，豎直放置，10-25片/批次（根據(jù)工藝）
156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片
3D 復(fù)雜表面襯底
粉末與顆粒
多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品
原子層沉積系統(tǒng)工藝溫度

50 – 500 °C, 可選更高溫度
原子層沉積系統(tǒng)基片傳送選件

氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載）
預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock ）
前驅(qū)體

液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
4根獨(dú)立源管線，zui多加載6個(gè)前驅(qū)體源
重量

350 kg
尺寸 (W x H x D)

取決于選件
zui小146 cm x 146 cm x 84 cm
zui大189 cm x 206 cm x 111 cm
選件

PICOFLOW?擴(kuò)散增強(qiáng)器，集成橢偏儀，QCM， RGA，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）。
原子層沉積系統(tǒng)驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝

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