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  • SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度

SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度

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  • 型號
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  • 所在地
  • 更新時間2024-02-15
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量7
  • 人氣值25
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SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度產(chǎn)品簡介SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)
SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度 產(chǎn)品詳情
SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度

產(chǎn)品簡介

SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光(紫外光、可見光以及紅外光)變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上,偏振光進入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi),由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變,而這種改變會被橢偏儀測量,橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的。


SE300型號實現(xiàn)400nm到1000 nm超長波段的探測,可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。

設備配置

探測器:陣列探測器

光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

測量角度變化:手動調(diào)節(jié)

軟件:TFProbe 3.2版本的軟件

計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

保修:一年的整機及零備件保修

規(guī)格參數(shù)

波長范圍:400nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸:1mm至5mm可變

入射角范圍:0到90度

入射角變化分辨率:5度間隔

樣品尺寸:zui大直徑為200mm或者150mm邊長方形

基板尺寸:zui多可至20毫米厚

測量厚度范圍*:5nm〜10μm

測量時間:約1/位置點

精度*:優(yōu)于0.25%

重復性誤差*:小于1 Ǻ

產(chǎn)品選型

用于反射的光度測量或透射測量;

用于測量小區(qū)域的微小光斑;

用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣恿拷瞧鳎?br>
X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式);

加熱/致冷平臺;

樣品垂直安裝角度計;

波長可擴展到遠DUV或IR范圍;

掃描單色儀的配置;

聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能,可用于對樣品的圖像進行測量等。

產(chǎn)品相冊

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