詳細摘要： 應用領域：本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以...
產品型號：所在地：杭州市更新時間：2024-04-03 在線留言杭州大華儀器制造有限公司
杭州大華儀器制造有限公司
詳細摘要： 應用領域：本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以...
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詳細摘要： 應用領域：TablePVD-15一款小型電阻蒸發(fā)鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電...
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詳細摘要： 應用領域：適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Al、Au、Ag、Cu等），也可蒸鍍各種氧化物材料
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詳細摘要： 應用領域：該系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其它化學反應膜等
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詳細摘要： 應用領域：適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀...
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詳細摘要： 應用領域：系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜,可鍍金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其它化學反應膜等
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詳細摘要： 應用領域：電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高...
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詳細摘要： 可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜
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詳細摘要： DH-450系列高真空鍍膜機為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設備，采用系統(tǒng)框架，結構緊湊，外觀更漂亮，使用更安全
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詳細摘要： 真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glovebox無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，PVD與Glovebox（手套箱...
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詳細摘要： 為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）
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詳細摘要： DH-GCVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長模式，可采用計算機自動控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制，可以在10-3Torr—760Torr之間的任意氣...
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詳細摘要： 本裝置包含燒結系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，供氣系統(tǒng)于一體，應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等；也可用于氣相傳輸法材料合...
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詳細摘要： 超聲霧化熱解噴涂（UltrasonicSprayPyrolysis，USP）是一種重要的薄膜材料制備方法
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詳細摘要： 本裝置由我公司和材料物理重點實驗室聯合研制，由溫度控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和單晶爐爐體等部分組成
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詳細摘要： 應用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測之用，也適用于各種瓷粉及全瓷材料，燒結氧化鋁烤瓷
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詳細摘要： 應用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測之用，也適用于各種瓷粉及全瓷材料，燒結氧化鋁烤瓷
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詳細摘要： 應用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測之用，也適用于各種瓷粉及全瓷材料，燒結氧化鋁烤瓷
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詳細摘要： 適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等
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