超高真空系統(tǒng)用于對超薄磁膜和多層電子束蒸發(fā)的薄膜沉積進行現(xiàn)場實時磁光克爾效應研究。
- 本底真空范圍 10-10mbar, 150°C烘烤
- 垂直于樣品排列的磁極
- 磁極間場域 > 0.17 特斯拉
- 4 軸超高真空樣品操縱器,用于操作樣品夾具
- 樣品加熱至800°C,以及使用液氮LN冷卻
- MOKE室光學系統(tǒng)(調(diào)節(jié)器、極化器、光電探測器、激光)
- 帶設備的整個腔室安裝在定位臺上
- 真空手提箱,便于運輸
系統(tǒng)特點:
- 沉積過程中的真空:~1x10-8 mbar
- 沉積技術:電子束蒸發(fā)(EB)
- 表征技術:MOKE
- 厚度測量:使用石英晶體顯示器
- 場域: ~0.3T
- 電源: 400W
- 模塊化設計允許連接沉積模塊(MBE、PLD、磁控濺射)或分析模塊(XPS、UPS、ARPES IR等)