磁控濺射儀-儀表網(wǎng)

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產品簡介在線詢價

產品描述：磁控濺射儀在線訂購

磁控濺射儀產品詳情

磁控濺射儀

襯底尺寸：4'為主，6'兼容。

濺射金屬膜厚均勻性要求：≤±5%。

靶位：4個。

極限壓力：<6.6×10-6e Pa。

靶材尺寸：3英寸。

可濺射磁性材料。

靶與樣品距離可調，且可以在30度角度內擺頭。

配置load-lock，可放置5片6英寸樣品，在高真空狀態(tài)下，由電動馬達分別傳送每片樣品，順序濺射每片樣品，逐一完成5片濺射鍍膜。

樣品臺可加熱至750度，可旋轉。

全自動真空度控制模塊。

氣路：Ar、O₂、N₂。

射頻電源：2個，每個600W。

直流電源：2個，每個1000W

關鍵詞：控制模塊直流電源

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