1. 簡(jiǎn)介
LITHOSCALE 無(wú)掩模光刻機(jī)系統(tǒng)是一個(gè)革命性的,高度靈活的無(wú)掩模光刻曝光平臺(tái)面向容納晶片可達(dá)300毫米的各種微細(xì)加工應(yīng)用。
LITHOSCALE無(wú)掩模光刻曝光系統(tǒng)采用了EV Group的MLE™無(wú)掩模曝光技術(shù)通過(guò)結(jié)合強(qiáng)大的數(shù)字處理功能來(lái)解決傳統(tǒng)瓶頸,該功能可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸和即時(shí)曝光,高結(jié)構(gòu)分辨率和吞吐量可伸縮性。它的無(wú)掩模曝光方法消除了與掩模相關(guān)的消耗品,而曝光系統(tǒng)及其可調(diào)諧固態(tài)激光源則具有高冗余度和較長(zhǎng)的使用壽命穩(wěn)定性,并具有的自動(dòng)校準(zhǔn)功能,可蕞大程度地減少維護(hù)工作。強(qiáng)大的實(shí)時(shí)數(shù)字處理功能可將設(shè)計(jì)文件立即暴露于基材,從而避免了每種數(shù)字掩模版圖的轉(zhuǎn)換時(shí)間。LITHOSCALE具有高分辨率(<2µm L / S),動(dòng)態(tài)裸片級(jí)可尋址整個(gè)基板表面的曝光,可實(shí)現(xiàn)靈活的無(wú)耗材處理和低成本(CoO)。LITHOSCALE系統(tǒng)利用具有可見(jiàn)和紅外功能的專用物鏡以及專有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)集成了完整晶圓的頂部和背面對(duì)準(zhǔn),可容納蕞大300 mm的晶圓。該系統(tǒng)具有自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)模式,以適應(yīng)基板材料和表面變化。精細(xì)控制焦點(diǎn)水平位置的能力可保持側(cè)壁陡峭以及抗蝕劑的所需3D輪廓,同時(shí)防止邊緣打底和打底。大的工作距離和自動(dòng)自適應(yīng)對(duì)焦功能可確保整個(gè)曝光表面的圖案均勻性。它還具有個(gè)性化的裸片處理能力,而快速的全場(chǎng)定位和動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)則可為各種尺寸和形狀的基板提供高度可擴(kuò)展性。
2. 特征
1) 晶圓/基板尺寸蕞大為300毫米/ 12英寸
2) 分辨能力<2 µm L / S
3) 配備具有膏端衍射極限光學(xué)元件的MLE技術(shù)
4) 375 nm和/或405 nm波長(zhǎng)的曝光光譜;用戶可以定義為單一,寬帶或任何種類的波長(zhǎng)混合
5) 定期監(jiān)控和自動(dòng)校準(zhǔn)的固態(tài)光源可確保其長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和高冗余度
6) *的對(duì)準(zhǔn)模式支持頂部和底部VIS和IR對(duì)準(zhǔn)功能
7) 聚焦控制深度(DoF)<24 µm
8) 自適應(yīng)自動(dòng)對(duì)焦控制(AF)<100 µm
9) 經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái),嵌入高科技機(jī)電和校準(zhǔn)傳感器,可確保整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性
10) *的軟件功能包括:
動(dòng)態(tài)模具級(jí)注釋
*的失真補(bǔ)償
通過(guò)每個(gè)晶片的主機(jī)/靈活的掩模文件傳輸和配方執(zhí)行
布局轉(zhuǎn)換功能
備用格式文件支持:Gerber,ODB++,OASIS
11) 自動(dòng)非接觸式楔形補(bǔ)償程序
12) 可擴(kuò)展的解決方案,可在一個(gè)系統(tǒng)中滿足研發(fā)和大批量制造(HVM)的需求,而不會(huì)增加占地面積
13) 無(wú)耗材技術(shù)
圖1 MLE 無(wú)掩模光刻曝光技術(shù)
3. 技術(shù)數(shù)據(jù)
1) 圖案的蕞小特征尺寸:CD:≤2 µm
2) 對(duì)齊方式:
頂部對(duì)齊:≤±0.5 µm
底部側(cè)面對(duì)準(zhǔn):≤±1.0 µm
紅外對(duì)準(zhǔn):≤±1.0 µm / 取決于基板材料
3) 曝光光譜(單,寬帶或任何種類的混合):375 + 405納米
4) 晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米
5) 楔形補(bǔ)償:非接觸式
6) 焦點(diǎn):
焦點(diǎn)深度[DoF]:24 µm
自動(dòng)對(duì)焦[AF]:100 µm
7) 動(dòng)態(tài)對(duì)齊方式[DAM]
全領(lǐng)域一致
多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)
8) *的LITHOSCALE功能
每個(gè)主機(jī)通過(guò)主機(jī)/靈活的數(shù)字掩模文件傳輸和配方執(zhí)行
動(dòng)態(tài)注釋功能
自動(dòng)對(duì)焦功能
*的失真功能
布局轉(zhuǎn)換功能
Gerber文件格式支持
ODB ++文件格式支持
OASIS文件格式支持
9) 工業(yè)自動(dòng)化功能
盒式磁帶
FOUP
SECS / GEM
10) 系統(tǒng)控制
作業(yè)系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 配方和參數(shù)
靈活的流程定義
簡(jiǎn)易的拖放配方編程
并行處理多個(gè)作業(yè)
多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除
11) 智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能-Framework Software Platform
用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能
并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能
設(shè)備和過(guò)程性能根蹤功能
智能處理功能
發(fā)生和警報(bào)分析
智能維護(hù)管理和根蹤
圖2 MLE無(wú)掩模光刻示意圖