細節(jié)展示
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| 整機工作情況 | 整個管子輝光情況 | 高真空下輝光情況 |
PECVD 系統(tǒng)
微型PECVD系統(tǒng)，它包括小型真空管式爐，石英真空室、真空抽氣與真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、物料噴射系統(tǒng)。電源范圍寬：0-150W可調(diào); 溫度范圍寬：100-1200度可調(diào);濺射區(qū)域?qū)挘?-600mm可調(diào);適用范圍寬:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，連續(xù)生長各種薄膜等。增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能。
主要特點
1. 薄膜沉積速率高：采用了甚高頻技術(shù)，大大的提高了薄膜的沉積速率，沉積速率可達10Å/S;
2. 大面積均勻性高：采用了*的多點射頻饋入技術(shù)，特殊氣路分布和加熱技術(shù)等，使得薄膜均勻性指標達到8%;
3. 一致性高：用半導體行業(yè)的*設(shè)計理念，使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;
4. 工藝穩(wěn)定性高：高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;
5. 選配物料噴射系統(tǒng)，可將原料直接噴射到反應(yīng)區(qū);
6.號：ZL.0 (產(chǎn)品，防偽必究)。
1.加熱系統(tǒng)
| 溫度 | 1200℃ |
| 使用溫度 | ≤1100℃ |
| 爐膛有效尺寸 | Φ80mm（適用于2-3英寸樣品，爐管直徑可根據(jù)實際需要定制。） |
| 爐膛材料 | 氧化鋁、高溫纖維制品 |
| 熱電偶類型 | K型熱電偶 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 控溫方式 | 30段可編程控溫，PID參數(shù)自整定 |
| 加熱長度 | 230mm |
| 加熱原件 | 電阻絲 |
| 供電電源 | 單相，220V，50Hz |
2、PE系統(tǒng)
| 功率輸出范圍 | 0W~150W |
| 射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female |
| 功率穩(wěn)定度 | ≤5W |
| 諧波分量 | ≤-50dbc |
| 供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
| 整機效率 | >=70% |
| 功率因素 | >=90% |
| 冷卻方式 | 強制風冷 |
3、三路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)
| 連接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
| 標準量程（N2) | 200sccm，500sccm、1000sccm （可根據(jù)用戶要求定制） |
| 準確度 | ±1.5%F.S |
| 線性 | ±1%F.S |
| 重復精度 | ±0.2%F.S |
| 響應(yīng)時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec |
| 工作壓差范圍 | 0.1～0.5 MPa |
| 壓力 | 3MPa |
| 接口 | Φ6,1/4'' |
| 顯示 | 4位數(shù)字顯示 |
| 工作環(huán)境溫度 | 5~45高純氣體 |
| 壓力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
| 截止閥 | Φ6 |
| 內(nèi)外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
4、低真空機組
| 空氣相對濕度 | ≤85% |
| 工作環(huán)境 | 5℃～40℃ |
| 工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
| 功率 | 1KW |
| 抽氣速率 | 10m³/h |
| 極限真空 | 5X10-1Pa |
| 工作壓力范圍 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
| 耐壓值 | 0.03MPa |
| 容油量 | 1.1L |
| 進氣口口徑 | KF25 |
| 排氣口口徑 | KF25 |
| 噪音 | 50dB |
| 連接方式 | 采用波紋管，手動擋板閥與波紋管相連 |
