HC-21離子濺射鍍膜機(jī)是為普通掃描電鏡非導(dǎo)電樣品制備而設(shè)計(jì)的一款性能*的經(jīng)濟(jì)型產(chǎn)品,可以濺射金,銀,銅,鋁等靶材。
主要特點(diǎn):
1.方便操作的自動(dòng)真空系統(tǒng)
2. 高速鍍膜減少敏感樣品熱損傷High speed coating for reduce heat damage to sensitive specimens.
3. 各種形貌的鍍膜質(zhì)量非常均勻All shapes, size coating uniformly
4. 集成化的設(shè)計(jì).
性能指標(biāo):
1. 濺射系統(tǒng) : 頂部電極發(fā)射系統(tǒng)
2. 工作真空度: ~10 -1 Pa (~10 -3 Torr)
3. 高壓電源: DC 0 ~ 1.2 kV (連續(xù)可調(diào))
4. 靶材: 57mm dia 金靶盤 (標(biāo)準(zhǔn)) or 碳
5. 真空監(jiān)測: 皮拉尼真空計(jì)
6. 時(shí)間控制范圍: 0.1sec, sec, min, hour
7. 離子流: Air / Ar / N
8. 電源 : 220VAC, 單項(xiàng)
9. 外形尺寸(mm) : 300(H)X430(W)X320(D) ; 玻璃樣品室尺寸: 120(Dia)X110 (H)
10. 重量 (kg) : 15