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反應離子刻蝕(RIE/ICP-RIE)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2023-01-14
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量73
  • 人氣值559
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深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年,由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦,團隊成員均為理工科博士和碩士,具有高水平的專業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷售和安裝服務,產(chǎn)品覆蓋薄膜制備,物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下:1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設備;2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件;美國OCI的LEED和AES等各種真空組件;美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺;3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材,如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價比高,品質(zhì)精良,性能*,在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑,國內(nèi)眾多的科研院所和大學均對我們的產(chǎn)品報以好評。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,良好的服務和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案!期待與您的合作!
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反應離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓,通過產(chǎn)生的等離子體對樣品進行化學和物理刻蝕
反應離子刻蝕(RIE/ICP-RIE) 產(chǎn)品詳情

反應離子刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓,通過產(chǎn)生的等離子體對樣品進行化學和物理刻蝕。矽碁科技提供各類定制化RIE設備,廣泛應用于氧化硅、氮化硅及各類電介質(zhì)材料刻蝕,此外矽碁還可以提供電感耦合反應離子刻蝕機(ICP-RIE),該機型可提供更高的等離子濃度,適合金屬等其他材料的刻蝕。


技術(shù)參數(shù):

1 基片尺寸可定制;

2 多層式工藝氣體導入,氣體分布均勻;

3 獨立MFC控制箱,可靈活擴充工藝氣路;

4 基板水冷系統(tǒng),保持刻蝕時基板溫度恒定;

5 刻蝕均勻性優(yōu)于 ±5%;

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