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反應(yīng)離子刻蝕（RIE/ICP-RIE）

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2023-01-14
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限第1年
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量73
  • 人氣值541
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深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團(tuán)隊(duì)成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準(zhǔn)。公司致力于半導(dǎo)體微加工及分析設(shè)備的銷售和安裝服務(wù)，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測(cè)量和表面分析。經(jīng)營(yíng)的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機(jī)和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設(shè)備；2. 美國(guó)Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國(guó)OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國(guó)MicroXact的真空、低溫和磁場(chǎng)等數(shù)種探針臺(tái)；3. 我們還提供上述設(shè)備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價(jià)比高，品質(zhì)精良，性能*，在歐美及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)具有的口碑，國(guó)內(nèi)眾多的科研院所和大學(xué)均對(duì)我們的產(chǎn)品報(bào)以好評(píng)。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務(wù)和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！
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反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕
反應(yīng)離子刻蝕（RIE/ICP-RIE） 產(chǎn)品詳情

反應(yīng)離子刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產(chǎn)生的等離子體對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕。矽碁科技提供各類定制化RIE設(shè)備，廣泛應(yīng)用于氧化硅、氮化硅及各類電介質(zhì)材料刻蝕，此外矽碁還可以提供電感耦合反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(ICP-RIE)，該機(jī)型可提供更高的等離子濃度，適合金屬等其他材料的刻蝕。


技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；

2 多層式工藝氣體導(dǎo)入，氣體分布均勻；

3 獨(dú)立MFC控制箱，可靈活擴(kuò)充工藝氣路；

4 基板水冷系統(tǒng)，保持刻蝕時(shí)基板溫度恒定；

5 刻蝕均勻性優(yōu)于 ±5%；

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產(chǎn)品名稱參考價(jià)地區(qū)公司名稱更新時(shí)間 
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