裕隆時代 LMC-2000磁控離子濺射儀，是專用于高倍掃描電鏡（SEM）圖像和電極制備的金屬鍍膜系統(tǒng)，成膜精細致密，能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。
主要用途： 制備金、鉑、銀、銅、錫、鋅、銦、銻等金屬薄膜
裕隆時代LMC-2000磁控離子濺射儀（鍍膜儀）
裕隆時代 LMC-2000磁控離子濺射儀，是專用于高倍掃描電鏡（SEM）圖像和電極制備的金屬鍍膜系統(tǒng)，成膜精細致密，能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。
主要用途： 制備金、鉑、銀、銅、錫、鋅、銦、銻等金屬薄膜
技術特點：
全自動控制，操作簡捷
鍍膜顆粒小，適用于場發(fā)射電鏡等高倍樣品觀測，和電極制備
無高熱損傷，適用于對溫度敏感的樣品
內置操作向導，無需培訓即可熟練操作
儀器參數(shù)
1.1 顯示屏: 5英寸 800×480 彩色觸摸屏
1.2 真空室： 高硅硼玻璃 φ125×125mm
1.3 可用靶材： 金、鉑、銀、銅、錫、鋅、銦、銻等金屬
1.4 真空系統(tǒng)： 1.1L/S 真空旋片泵
1.5 靶材尺寸：φ57×0.12mm
1.6 工作電流：5-45mA連續(xù)可調
1.7 工作時間：1-999s連續(xù)可調
1.8 工作氣體： 空氣或氬氣
1.9 產(chǎn)品尺寸： 424（L）×271（D）×255（H）
應用案例
電池隔膜10萬倍（噴鉑）
客戶服務
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