英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用。預(yù)選擇參數(shù)及全自動(dòng)控制使得精確鍍層及重復(fù)厚度沉積更為方便。磁電管靶使用低電壓，可提高效率，K550X能得到非常精細(xì)的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺(tái)。
腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。
儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供的性能價(jià)格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。
功能集中在儀器面板上及即插即用電子學(xué)設(shè)計(jì)，的“up-time”，這些用戶友好設(shè)計(jì)滿足了不同學(xué)科的用戶需求。
濺射參數(shù)可被預(yù)先設(shè)置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設(shè)置，它就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動(dòng)操作，可控制獨(dú)立的真空泵。
英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的特點(diǎn)
1、全自動(dòng)控制
2、低電壓濺射
3、高分辨率精細(xì)涂層
(金顆粒可達(dá)2 nm)
4、具有傾斜裝置的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)
5、均勻厚度沉積
(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃)
6、165 mm(6英寸)腔室
優(yōu)點(diǎn)：
● 易操作
● 無需冷卻樣品臺(tái)
● 精確的再次涂層
● 適合各種樣品
● 膜厚度重復(fù)性好
● 容易裝載或卸載樣品
● 可預(yù)設(shè)沉積厚度
英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的技術(shù)參數(shù)
1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
2、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
3、安全鐘罩:聚碳酸酯
4、靶：60mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標(biāo)準(zhǔn)靶面)
5、樣品臺(tái)直徑為50mm，靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
6、真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
7、濺射電流:0-50mA
8、沉積速率:0-25nm/分
9、濺射定時(shí): 0-4 分鐘
10、預(yù)設(shè)置針閥:控制氬
11、電源:230 伏 50Hz
