型號:MEB450S, 產(chǎn)地:歐洲, 應(yīng)用:沉積金屬薄膜
蒸鍍腔體:高600mm、寬450mm、深450mm
熱蒸鍍源:6個熱蒸鍍源
樣品臺: 可加載4×60mm襯底
襯底旋轉(zhuǎn):10 rpm
襯底加熱:熱阻絲加熱可達300℃
采用熱電偶控溫
厚度控制:采用 石英晶振膜厚控制儀
襯底清洗及刻蝕:
配備直流離子槍
Ar、N2氣路用于反應(yīng)離子束刻蝕
刻蝕不均勻性±4% @ 60mm晶圓
離子槍到襯底距離為300mm
控制系統(tǒng):全自動控制,半自動和手動模式可用
若對我們的設(shè)備感興趣,歡迎聯(lián)系我們!