關(guān)鍵詞:電子束蒸鍍、熱蒸鍍、離子束輔助沉積、高真空鍍膜設(shè)備、光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)、OMS、 金屬膜、
氧化膜、IBAD、IBD、光學(xué)薄膜、紫外、紅外膜、增透膜、增反膜、二氧化硅/鋁復(fù)合膜
熱蒸發(fā)源:多個(gè)
電子束蒸發(fā)源:多坩堝
高真空系統(tǒng):低溫泵+干泵,真空度<10-7 Torr
樣品臺(tái):可接納4個(gè)6英寸襯底
膜厚檢測(cè)系統(tǒng):多個(gè)晶振檢測(cè)探頭
沉積速率分辨率:0.01A/s
離子束輔助沉積
光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng):多個(gè)探頭、多波段。
監(jiān)控范圍:220nm-2200nm
高精度鍍膜
電腦控制:全自動(dòng)軟件