產(chǎn)品介紹
棱鏡耦合儀SPA-4000利用波導(dǎo)耦合原理，測量薄膜或體材料的折射率，薄膜厚度，熱光系數(shù)以及波導(dǎo)損耗等，用戶可選擇632.8nm，830nm，1310nm，1550nm以及其它可見光和近紅外光源。
主要功能： 4、液體折射率的測量； | 主要應(yīng)用領(lǐng)域： |
主要測量參數(shù)：
| 測量對(duì)象 | 測量內(nèi)容及參數(shù) | |
| 折射率 | 折射率測量范圍 | 1.0 - 2.45 |
| 折射率精度 | 0.001 | |
| 折射率分辨率 | ±0.0005 | |
| 厚度 | 厚度測量范圍 | 0.4? - 20? |
| 厚度精度 | ±0.5% | |
| 厚度分辨率 | ±0.01? | |
| 體材料（僅測折射率） | 折射率精度 | 0.0005 |
| 折射率分辨率 | ±0.0001 | |
| 厚薄膜 | 厚度測量范圍 | 2? - 150? |
| 液體（僅測折射率） | 折射率測量范圍 | 1.0 - 2.4 |
| 折射率精度 | ±0.0005 | |
| 熱光系數(shù) | 溫度測試范圍 | 室溫－150℃ |
| 波導(dǎo)損耗測量 | 測量限度 | below 0.05dB/cm |
可測量的薄膜和襯底材料類型：
硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍(lán)寶石、鋰酸鈮等任何光滑的襯底材料均可測量。
| 薄膜類型 | 襯底類型 | |
| Silicon Nitride | Silicon | |
| Silicon Dioxide | Silicon Oxynitride | GaAs |
| Low-k films | Polymers | Quartz |
| Polyimides | ITO | Glass |
| Zinc Sulfide | Titanium Dioxide | Sapphire |
| Sapphire | Epi Garnet | GGG |
| Photoresists | Holographic Gels | Lithium Niobate |
一些材料的厚度測量范圍：
| 薄膜類型和折射率 | 厚度和折射率同時(shí)測量 | 僅測量厚度 |
| 硅基上的二氧化硅（n=1.46） | 0.48-15mm | 0.20-0.48mm |
| 硅基上的光刻膠（n=1.63） | 0.42-15mm | 0.18-0.42mm |
| 二氧化硅上的光刻膠（n=1.63） | 0.70-15mm | 0.30-0.70mm |
| 硅基上的聚酰亞胺（n=1.72） | 0.38-15mm | 0.15-0.38mm |
| 二氧化硅上的聚酰亞胺（n=1.72） | 0.50-15mm | 0.16-0.50mm |
| 硅基上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.35-15mm | 0.14-0.35mm |
| 二氧化硅上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.45-15mm | 0.13-0.45mm |
| 硅基上的氮化硅（n=2.0） | 0.32-15mm | 0.12-0.32mm |
| 二氧化硅上的氮化硅（n=2.0） | 0.30-15mm | 0.15-0.30mm |
