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  • Turbo-V 2K-G渦輪分子泵

Turbo-V 2K-G Turbo-V 2K-G渦輪分子泵

參考價
面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號Turbo-V2K-G
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2021-10-05
  • 廠商性質經銷商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數量917
  • 人氣值1691
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  公司成立以來主要經營低溫冷卻液循環(huán)泵、旋轉蒸發(fā)儀、單雙層玻璃反應釜、多功能反應器、高溫循環(huán)槽、高低溫一體機等產品,另外我公司還代理德國vacuubrand化學隔膜泵系列,配套使用。在國內大專院校、科研單位深受好評,得到了充分肯定。

  本公司將繼續(xù)竭誠為科研院所、大專院校、藥品校驗、化工、冶金石油、生化、食品加工重點工程提供優(yōu)質的產品及良好的售后服務。

  本公司專注于生物化工領域、立志于創(chuàng)新。為進一步擴大合作,強化共贏,杭州庚雨儀器有限公司誠摯邀請廣大客戶攜手發(fā)展,共創(chuàng)美好明天!

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Turbo-V2K-G不僅僅是一臺泵
Turbo-V 2K-G渦輪分子泵 產品詳情

Turbo-V 2K-G 不僅僅是一臺泵。它是專門為等離子濺射工藝精心設計的專用分子泵系統(tǒng)。其葉片級數和泵的整體結構均經過優(yōu)化,可以工作在高氬氣氛圍下和溫度*的環(huán)境中。此外,它還擁有內置的控制器件、一體化的放空和充氮氣保護閥以及免維護的軸承。所有這些特點使 Agilent Turbo-V 2K-G 成為鍍膜工業(yè)出色的解決方案。

特性:

1、為薄膜沉積應用而專門設計的分子泵解決方案

2、現有的高性能、緊湊的儀器

3、采用*集成的方法很大程度提高系統(tǒng)效率和正常運行時間的渦輪分子泵

4、將渦輪分子泵、驅動器件、電源、MoniTorr、吹掃氣裝置和通信裝置集于一身

5、通用電子器件接口并配有操作簡單的控制軟件模擬 I/O 信號以及 RS232/RS485 接口等標準配置

6、安捷倫 Profibus 接口(可選)

7、采用了安捷倫 A-PLUS 軟件(原 T-plus)

渦輪分子泵應用范例:

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,其設計旨在實際應用中達到更高性能。泵的緊湊型設計滿足工業(yè)中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,或定制適合您的需求的系統(tǒng)。

典型渦輪泵應用:

領域詳細說明應用
質譜和分析儀器
  • 針對質譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵組的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 對于 GC/MS,提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
  • 對于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系統(tǒng)
  • 對于 ICP-MS,提供多種真空系統(tǒng),包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
  • 對于 TOF 系統(tǒng),需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備
  • 質譜
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF
科研中的真空應用
  • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
  • 粗真空軸承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高壓縮
  • 可以以任意角度安裝
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 高能物理
  • 融合技術
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器
工業(yè)真空加工
  • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
  • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業(yè)性能
  • 適用于具有預真空鎖或大型內聯連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵

薄膜沉積:

  • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,平板顯示器)
  • 薄膜太陽能電池生產(光電)
  • 光學數據介質(CD、DVD、磁光光盤)
  • 磁性存儲介質
  • 表面處理
  • 光學涂層(眼科、精密光電)
  • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工:

  • 生產電視機和顯示器顯像管
  • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
  • X 射線管和電子設備

一般工藝:

  • 真空爐/冶金
納米技術儀器
  • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質
  • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統(tǒng)
  • 低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析
  • 可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體
  • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
  • 非常適合為半導體生產創(chuàng)造合適環(huán)境
  • 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體(He、H)
  • 符合高速循環(huán)應用的嚴格要求,例如真空裝載鎖
  • 通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵,可提高工具的可靠性
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
  • 電子顯微鏡(SEM、TEM)
  • 聚焦離子束系統(tǒng) (FIB)
  • 表面分析
  • 半導體制造

技術規(guī)格:

抽速:
N2:1600 L/s
??
壓縮比:N2:3 × 105
極限真空*(使用推薦的前級泵)< 1 × 10-8 mbar
入口法蘭ISO 250F
前級管道法蘭KF 40 NW
額定轉速33000 rpm
啟動時間< 7 分鐘
推薦的前級泵> 40 m3/h
工作位置任意位置
操作環(huán)境溫度+5 °C 至 +40 ℃
電源
輸入電壓
輸入頻率
100–240 Vac
50-60 Hz
通訊接口模擬 I/O
RS232/RS485
Profibus
標準
標準
可選
尺寸
高度
重量
直徑
335 mm(13.18 英寸)
335 mm(13.18 英寸)
35 kg(77 磅)

* 根據德國工業(yè)標準 (DIN) 28 428。

Turbo-V 2K-G外形圖

Turbo-V2K-G抽速與入口壓力關系圖


Turbo-V2K-G壓縮比與前級壓力關系圖

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