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  • 伯東代理KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列

伯東代理KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列

參考價(jià)
300000-600000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國(guó)外
  • 更新時(shí)間2023-01-10
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3537
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位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國(guó)Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國(guó)UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國(guó)外的高科技產(chǎn)品與中國(guó)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進(jìn)國(guó)內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動(dòng)現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國(guó), 堅(jiān)持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠(chéng)信、互動(dòng)、共贏的價(jià)值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時(shí),提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時(shí)周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個(gè)誠(chéng)信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
上海伯東KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)有效提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū).
伯東代理KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

美國(guó) KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列

美國(guó) KRI

霍爾離子源 eH 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)有效提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù). 霍爾離子源 eH 提供一套完整的方案包含離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如鍍膜機(jī), load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機(jī)等.
霍爾離子源

美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 特性

無柵ji

高電流低能量

發(fā)散光束 >45

可快速更換陽極模塊

可選 Cathode / Neutralize 中和器



美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 主要應(yīng)用

輔助鍍膜 IBAD

濺鍍&蒸鍍 PC

表面改性、激活 SM

沉積 (DD)

離子蝕刻 LIBE

光學(xué)鍍膜

Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)

Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如

1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍

2. 線上式磁控濺射及蒸鍍?cè)O(shè)備預(yù)清洗

3. 表面處理

4. 表面硬化層鍍膜

5. 磁控濺射輔助鍍膜

7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜

美國(guó) KRI 霍爾離子源 Gridless eH

霍爾離子源 eH 系列在售型號(hào):

型號(hào)

eH200(停產(chǎn))

eH400

eH400LE


eH1000
eH1000LE
eH1000LO

eH1000xO2

eH2000
eH2000LE
eH2000HO

eH3000
eH3000LO
eH3000MO

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

Cathode/Neutralizer

F or HC

F or HC

F or HC

F or HC

F or HC

HC

HC

HC

電壓

30-300V

50-300V

30-150V

50-300V

30-150V

50-300V

100-300V

50-300V

30-150V

50-250V

50-250V

50-300V

50-250V

電流

2A

5A

10A

10A

12A

5A

10A

10A

15A

15A

20A

10A

15A

散射角度

>45

>45

>45

>45

>45

>45

氣體流量

1-15sccm

2-25sccm

2-50sccm

2-50sccm

2-75sccm

5-100sccm

高度

2.0“

3.0“

4.0“

4.0“

4.0“

6.0“

直徑

2.5“

3.7“

5.7“

5.7“

5.7“

9.7“

水冷

可選

可選

可選

可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設(shè)計(jì), 易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應(yīng)用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預(yù)清潔 ISSP, 離子蝕刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

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上海伯東 : 羅先生                               中國(guó)臺(tái)灣伯東 : 王小姐



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