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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專(zhuān)業(yè)技能和服務(wù)意識(shí)，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。另外公司還代理美國(guó)Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI 離子源，HVA 高真空閥門(mén)。公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則，為廣大客戶(hù)提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、ISO9001－2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001－1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神，為滿(mǎn)足客戶(hù)的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國(guó)外的高科技產(chǎn)品與中國(guó)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)的飛速發(fā)展緊密結(jié)合，為促進(jìn)國(guó)內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動(dòng)現(xiàn)代化，以高質(zhì)量服務(wù)全中國(guó), 堅(jiān)持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專(zhuān)業(yè)代理公司,代理上公司的半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠(chéng)信、互動(dòng)、共贏的價(jià)值體系, 為所有的客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時(shí),提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時(shí)周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶(hù)聯(lián)手合作,共建一個(gè)誠(chéng)信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢(xún)價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否

上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.

KRi 離子源電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.

e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)加裝 KRi 離子源作用
通過(guò)向生長(zhǎng)的薄膜中添加能量來(lái)增強(qiáng)分子動(dòng)力學(xué), 以增加表面和原子/分子的流動(dòng)性, 從而導(dǎo)致薄膜的致密化.
通過(guò)向生長(zhǎng)薄膜中添加活性離子來(lái)增強(qiáng)薄膜化合物的化學(xué)轉(zhuǎn)化, 從而得到化學(xué)計(jì)量完整材料.

使用美國(guó) KRi 考夫曼離子源可以實(shí)現(xiàn)
增強(qiáng)和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改進(jìn), 控制薄膜化學(xué)計(jì)量, 提高折射率, 降低薄膜應(yīng)力, 控制薄膜微觀結(jié)構(gòu)和方向, 提高薄膜溫度和環(huán)境穩(wěn)定性, 增加薄膜附著力, 激活表面, 薄膜界面和表面平滑, 降低薄膜吸收和散射, 增加硬度和耐磨性.

KRi KDC 考夫曼離子源典型案例:
設(shè)備: e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
離子源型號(hào): KDC 75
應(yīng)用: IBAD 輔助鍍膜, 在玻璃上鍍上高反射率膜 (光柵的鍍膜)
離子源對(duì)工藝過(guò)程的優(yōu)化: 無(wú)需加熱襯底, 對(duì)溫度敏感材料進(jìn)行低溫處理, 簡(jiǎn)化反應(yīng)沉積

上海伯東美國(guó) KRi 離子源適用于各類(lèi)沉積系統(tǒng) (電子束蒸發(fā)或熱蒸發(fā), 離子束濺射, 分子束外延, 脈沖激光沉積), 實(shí)現(xiàn) IBAD 輔助鍍膜

IBAD輔助鍍膜

美國(guó) KRi KDC 考夫曼型離子源技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 陽(yáng)極	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流
離子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長(zhǎng)度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直徑	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	燈絲

上海伯東美國(guó) KRi 離子源 KDC 系列適用于標(biāo)準(zhǔn)和新興材料工藝. 在原子水平上工作的能力使 KDC 離子源能夠有效地設(shè)計(jì)具有納米精度的薄膜和表面. 無(wú)論是密度壓實(shí), 應(yīng)力控制, 光學(xué)傳輸, 電阻率, 光滑表面, 提高附著力, 垂直側(cè)壁和臨界蝕刻深度, KDC 離子源都能產(chǎn)生有益的材料性能. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.

上海伯東同時(shí)提供 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶(hù)生產(chǎn)研發(fā)更高質(zhì)量的設(shè)備.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專(zhuān)li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

若您需要進(jìn)一步的了解考夫曼離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生

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